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龙图腾网获悉周星工程股份有限公司申请的专利基板处理设备及基板处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115023512B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180011366.7，技术领域涉及：C23C16/455；该发明授权基板处理设备及基板处理方法是由柳寅瑞;黃喆周设计研发完成，并于2021-01-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本基板处理设备及基板处理方法在说明书摘要公布了：本发明涉及基板处理设备及基板处理方法。基板处理设备包括：腔室；基板支撑部被可旋转地安装在腔室内的工艺空间中，以允许至少一个基板位于其上；第一气体喷射单元，用于向工艺空间的第一区域喷射源气体和用于吹扫源气体的第一吹扫气体；源气体供应源，用于将源气体供应到第一气体喷射单元；第一吹扫气体供应源，用于将第一吹扫气体供应到第一气体喷射单元；第二气体喷射单元，与第一区域在空间上分离，且被配置成向工艺空间的第二区域喷射与源气体反应的反应气体和用于吹扫反应气体的第二吹扫气体；反应气体供应源，用于将反应气体供应到第二气体喷射单元；和第二吹扫气体供应源，用于将第二吹扫气体供应到第二气体喷射单元。

本发明授权基板处理设备及基板处理方法在权利要求书中公布了：1.一种用于处理基板的装置，所述装置包括： 腔室； 基板支撑单元，在所述基板支撑单元处，一个或多个基板被安装在所述腔室的工艺空间中，所述基板支撑单元被可旋转地安装； 第一气体注入单元，用于将源气体和第一吹扫气体注入到所述工艺空间的第一区域，所述第一吹扫气体用于吹扫所述源气体； 源气体供应源，用于将所述源气体供应到所述第一气体注入单元； 第一吹扫气体供应源，用于将所述第一吹扫气体供应到所述第一气体注入单元； 第二气体注入单元，用于将反应气体和第二吹扫气体注入到所述工艺空间的与所述第一区域在空间上分开的第二区域，所述反应气体用于与所述源气体反应，所述第二吹扫气体用于吹扫所述反应气体； 反应气体供应源，用于将所述反应气体供应到所述第二气体注入单元； 第二吹扫气体供应源，用于将所述第二吹扫气体供应到所述第二气体注入单元； 第三气体注入单元，用于将第三吹扫气体注入到所述第一区域和所述第二区域之间的第三区域中；以及 第三吹扫气体供应源，用于将所述第三吹扫气体供应到所述第三气体注入单元中， 其中， 所述第一气体注入单元将所述源气体注入到所述第一区域中以将所述源气体吸附到所述基板上，然后将所述第一吹扫气体注入到所述第一区域中以吹扫所述源气体， 所述第二气体注入单元将所述反应气体注入到所述第二区域中以在所述基板上沉积薄膜，然后将所述第二吹扫气体注入到所述第二区域中以吹扫所述反应气体， 所述第三气体注入单元将所述第三吹扫气体注入到所述第三区域中，以将所述工艺空间划分为所述第一区域和所述第二区域， 其中，所述第一吹扫气体吹扫残留在所述第一区域中的所述源气体， 其中，所述第二吹扫气体吹扫残留在所述第二区域中的所述反应气体， 其中所述第一气体注入单元包括第一电极单元， 其中所述第二气体注入单元包括第二电极单元， 其中，所述第一电极单元和所述第二电极单元中的每一个包括第一电极和第二电极， 其中，所述第一气体注入单元的第一电极在内部具有用于所述源气体的第一流路和用于所述第一吹扫气体的第二流路，以及 其中，所述第二气体注入单元的第一电极在内部具有用于所述反应气体的第三流路和用于所述第二吹扫气体的第四流路。

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