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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基板处理装置和基板处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113655692B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110517270.X，技术领域涉及：G03F7/16；该发明授权基板处理装置和基板处理方法是由上山昇太;丸山光昭;大薗启;中岛清次设计研发完成，并于2021-05-12向国家知识产权局提交的专利申请。

本基板处理装置和基板处理方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法。提供能够针对该基板处理装置缩小占地面积的技术。对于包括设有分别对基板进行液处理的多个液处理组件的处理模块的基板处理装置，将基板输送模块设于处理模块的左侧。基板输送模块具备供用于收纳多个基板的容器载置的容器载置部和相对于容器交接基板的第1输送机构。另外，在处理模块设置沿左右延伸的基板的输送路径和在该输送路径上移动而向液处理组件输送基板的第2输送机构。而且，在处理模块以相对于所述输送路径向前方突出的方式设置第2处理组件，并且设置相对于该第2处理组件交接所述基板的第3输送机构。

本发明授权基板处理装置和基板处理方法在权利要求书中公布了：1.一种基板处理装置，其包括设有分别对基板进行液处理的多个液处理组件的处理模块，该基板处理装置的特征在于， 该基板处理装置具备： 基板输送模块，其具备供用于收纳多个所述基板的容器载置的容器载置部和相对于所述容器交接所述基板的第1输送机构，该基板输送模块相对于所述处理模块设于左右中的一方； 所述基板的输送路径，其在所述处理模块沿左右延伸； 多个层段，其在相对于所述输送路径的前后中的一方以所述液处理组件在纵向上成列的方式构成所述处理模块，并且分别包括该液处理组件； 第1处理组件，其在相对于所述输送路径的前后中的另一方在纵向上设置多个，并在所述液处理组件的处理之前或之后进行所述基板的处理； 第2输送机构，其在所述输送路径上移动而在所述液处理组件与所述第1处理组件之间输送所述基板； 第2处理组件，其在所述基板输送模块处的利用所述第1输送机构输送基板的输送区域的上方以从所述输送路径向前后中的一方或另一方突出的方式设置，其对所述基板进行与由所述第1处理组件进行的处理不同的处理； 第3输送机构，其相对于所述第2处理组件交接所述基板；以及 交接部，其设于所述输送路径的左右中的一侧，供所述基板载置，用于在所述第1输送机构、所述第2输送机构以及所述第3输送机构之间交接该基板， 所述第2处理组件设为从所述输送路径向相对于该输送路径的前后中的一方或另一方突出，并与所述交接部重叠， 所述交接部包括在纵向上成列并且分别载置所述基板的多个基板载置部， 所述第3输送机构具备： 突出侧输送机构，其在所述第2处理组件相对于所述输送路径突出的一侧与该第2处理组件重叠地设置；以及 非突出侧输送机构，其相对于所述输送路径设于与所述突出的一侧相反的一侧， 所述非突出侧输送机构在所述第2处理组件与所述基板载置部之间输送所述基板， 所述突出侧输送机构在各基板载置部间输送所述基板。

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