沈阳芯源微电子设备股份有限公司郑云龙获国家专利权
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龙图腾网获悉沈阳芯源微电子设备股份有限公司申请的专利喷嘴及清理基板表面污染物的装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115805149B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111074962.8，技术领域涉及：B05B7/02；该发明授权喷嘴及清理基板表面污染物的装置是由郑云龙;张伟业;赵旭设计研发完成，并于2021-09-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本喷嘴及清理基板表面污染物的装置在说明书摘要公布了：本发明提供了一种喷嘴及清理基板表面污染物的装置，包括喷嘴主体，开设有贯穿喷嘴主体的安装通道，安装通道的前端为输出通道，输出通道的外侧设有第一布风槽，喷嘴内芯开设有贯穿嵌入部的进液通道，进液通道的前端对应输出通道，进液通道的前端设有第二布风槽，喷嘴内芯具有嵌入部，嵌入部与安装通道配合连接且形成一级气腔，一级气腔与第二布风槽导通，壳体套设于喷嘴主体，壳体开设有输出口，壳体与喷嘴主体配合连接形成二级气腔，二级气腔与第一布风槽导通，第一布风槽与输出口导通。本发明通过一级气腔和二级气腔内的气体打散流出的液滴，使流出的液滴尺寸变小，形态更加均匀，可高效无损伤的清洗基板的表面，提高了处理半导体基板的良率。
本发明授权喷嘴及清理基板表面污染物的装置在权利要求书中公布了：1.一种喷嘴，其特征在于，包括： 喷嘴主体100，开设有贯穿所述喷嘴主体100的安装通道，所述安装通道的前端为输出通道101，所述输出通道101的外侧设有第一布风槽102； 喷嘴内芯400，具有嵌入部401，所述喷嘴内芯400开设有贯穿所述嵌入部401的进液通道402，所述进液通道402的前端对应所述输出通道101，所述进液通道402的前端设有第二布风槽403，所述嵌入部401与所述安装通道配合连接且形成一级气腔601，所述一级气腔601与所述第二布风槽403导通； 壳体500，套设于所述喷嘴主体100，所述壳体500对应所述输出通道101开设有输出口501，且所述壳体500与所述喷嘴主体100配合连接形成二级气腔602，所述二级气腔602与所述第一布风槽102导通，所述第一布风槽102与所述输出口501导通。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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