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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司申请的专利发光基板及其制备方法和发光装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116368408B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180003158.2，技术领域涉及：G02B5/18；该发明授权发光基板及其制备方法和发光装置是由石戈;杨松;梁蓬霞;陈小川;董学;孙艳六;方正;刘玉杰;韩佳慧;吴谦;李鸿鹏设计研发完成，并于2021-10-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本发光基板及其制备方法和发光装置在说明书摘要公布了：一种发光基板，包括：像素层，像素层包括多个亚像素；每个亚像素包括发光元件、设置于发光元件的出光面一侧的第一光取出层，设置于第一光取出层的第一表面一侧的第一材料层，以及与第一材料层的第二表面接触的第二材料层，发光元件被配置为发出第一颜色的光，第一光取出层被配置为将发光元件发出的光以预设角度偏折到第一材料层中，第一材料层和第二材料层被配置为使以预设角度偏折的光在第一材料层和第二材料层中进行传播；多个亚像素包括至少一个第一亚像素，至少一个第一亚像素所包含的第一材料层和第二材料层中至少第二材料层包括第一光转换材料。

本发明授权发光基板及其制备方法和发光装置在权利要求书中公布了：1.一种发光基板，其特征在于，包括： 像素层，所述像素层包括多个亚像素； 每个亚像素包括发光元件、设置于所述发光元件的出光面一侧的第一光取出层，设置于所述第一光取出层的第一表面一侧的第一材料层，以及与所述第一材料层的第二表面接触的第二材料层，所述发光元件被配置为发出第一颜色的光，所述第一光取出层被配置为将所述发光元件发出的光以预设角度偏折到所述第一材料层中，所述第一材料层和所述第二材料层被配置为使以所述预设角度偏折的光在所述第一材料层和所述第二材料层中进行传播； 其中，所述第一光取出层包括透镜结构，以及设置于所述透镜结构远离所述发光元件一侧的光栅结构，所述光栅结构远离所述发光元件的表面为所述第一表面；所述透镜结构被配置为对所述发光元件发出的光进行准直，所述光栅结构被配置为对所述透镜结构发出的光进行偏折，以将所述发光元件发出的光以所述预设角度偏折到所述第一材料层中；所述第二表面是所述第一材料层靠近或远离所述发光元件的表面； 所述多个亚像素包括至少一个第一亚像素，所述至少一个第一亚像素所包含的所述第一材料层和所述第二材料层中至少第二材料层包括第一光转换材料，所述第一光转换材料被配置为对在第一参考亚像素所包含的所述第一材料层和所述第二材料层中传播的光进行吸收，并将所吸收的光转换成第二颜色的光出射，所述第一参考亚像素是所述第一光转换材料所属于的第一亚像素。

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