京东方科技集团股份有限公司牛菁获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司申请的专利一种纹路识别基板、其制作方法及装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114170638B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111359811.7，技术领域涉及：G06V40/13；该发明授权一种纹路识别基板、其制作方法及装置是由牛菁;彭宽军;张方振;周婷婷;孙双;牛亚男;王玮设计研发完成，并于2021-11-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种纹路识别基板、其制作方法及装置在说明书摘要公布了：本发明提供了一种纹路识别基板、其制作方法及装置，其中，该纹路识别基板包括衬底基板和位于所述衬底基板上呈阵列排布的多个纹路传感单元；各个纹路传感单元包括光敏采集器以及位于所述光敏采集器背离所述衬底基板一侧的反射增强部，所述反射增强部用于反射来自外界的至少部分环境光。提高了强光下的纹路识别精度。
本发明授权一种纹路识别基板、其制作方法及装置在权利要求书中公布了：1.一种纹路识别基板，其特征在于，包括： 衬底基板和位于所述衬底基板上呈阵列排布的多个纹路传感单元； 各个纹路传感单元包括光敏采集器以及位于所述光敏采集器背离所述衬底基板一侧的反射增强部，所述反射增强部用于反射来自外界的至少部分环境光；所述光敏采集器为采用PIN的器件结构； 其中，所述反射增强部包括多个等宽等间距且沿相同方向延伸的条状反射结构，所述条状反射结构为反射光栅结构；或者，所述反射增强部包括呈阵列排布的多个突起结构。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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