京东方科技集团股份有限公司秦斌获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司申请的专利发光器件、发光器件的制造方法、显示模组和显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114937728B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210554084.8，技术领域涉及：H10H20/841；该发明授权发光器件、发光器件的制造方法、显示模组和显示装置是由秦斌;牛亚男;彭锦涛;高志坤设计研发完成，并于2022-05-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本发光器件、发光器件的制造方法、显示模组和显示装置在说明书摘要公布了：本申请实施例提供了一种发光器件、发光器件的制造方法、显示模组和显示装置。发光器件包括衬底层、发光结构和反射层，衬底层与发光结构叠层设置，反射层环绕发光结构和衬底层，衬底层的表面设置有出光通道，反射层暴露出光通道。在本实施例中，由于反射层环绕发光结构以及衬底层，因此，反射层不仅能够反射发光结构侧向扩散的光线，而且能够反射发光结构向背部扩散的光线，以此便能够使发光结构发射的光几乎全部发射至外部，另外，由于每一个发光器件均为一个独立的发光单元，通过提高每一个发光器件的出射光效率，能够增加具备该发光器件的显示模组或显示装置的显示对比度，以此提高显示模组或显示装置的显示质量。
本发明授权发光器件、发光器件的制造方法、显示模组和显示装置在权利要求书中公布了：1.一种发光器件，其特征在于，所述发光器件包括衬底层、发光结构和反射层，所述衬底层与所述发光结构叠层设置，所述反射层环绕所述发光结构和所述衬底层，所述发光结构背离所述衬底层的一侧设有所述反射层；所述衬底层的表面设置有出光通道，所述反射层暴露所述出光通道； 所述衬底层远离所述发光结构的一侧设置有辅助结构，所述辅助结构为所述衬底层的一部分，一部分所述反射层覆盖所述辅助结构； 所述辅助结构为台阶结构，所述反射层暴露的所述出光通道位于所述台阶结构中最远离所述发光结构的表面， 或，所述辅助结构为弧形结构，所述反射层覆盖所述弧形结构的一部分，且在所述弧形结构上形成有所述出光通道，所述反射层暴露的所述出光通道位于所述弧形结构中最远离所述发光结构的表面。
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