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上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司;上海集成电路研发中心有限公司李楚文获国家专利权

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龙图腾网获悉上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司;上海集成电路研发中心有限公司申请的专利膜厚预测方法、装置、设备、计算机可读存储介质及产品获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115099492B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210734279.0,技术领域涉及:G06Q10/04;该发明授权膜厚预测方法、装置、设备、计算机可读存储介质及产品是由李楚文;李琛;周涛;刁许玲设计研发完成,并于2022-06-27向国家知识产权局提交的专利申请。

膜厚预测方法、装置、设备、计算机可读存储介质及产品在说明书摘要公布了:本公开提供一种膜厚预测方法、装置、设备、计算机可读存储介质及产品,方法包括:获取待测薄膜对应的待测数据,所述待测数据中包括所述待测薄膜对应的产品监控日志文件、机台监控日志文件、与所述机台监控数据对应的薄膜的膜厚以及预设的所述机台监控日志文件中各项参数对应的权重;根据所述待测数据,确定所述待测薄膜对应的厚度类别;分别将所述待测数据输入至预训练的至少一个膜厚预测模型,获得各膜厚预测模型输出的预测结果;根据所述厚度类别以及所述预测结果,确定所述待测薄膜对应的目标膜厚。从而能够全面考虑薄膜生产过程中的产品监控日志文件、机台监控日志文件,从而能够准确地实现对薄膜厚度的预测,进而能够提高产品的良品率。

本发明授权膜厚预测方法、装置、设备、计算机可读存储介质及产品在权利要求书中公布了:1.一种膜厚预测方法,其特征在于,包括: 获取待测薄膜对应的待测数据,其中,所述待测数据中包括所述待测薄膜对应的产品监控日志文件、机台监控日志文件、与机台监控数据对应的薄膜的膜厚以及预设的所述机台监控日志文件中各项参数对应的权重,所述产品监控日志文件包括所述待测薄膜生产过程中所需的参数,所述机台监控日志文件包括机台操作参数和调试参数,所述与机台监控数据对应的薄膜为与所述待测薄膜生产工艺流程不同的薄膜,所述与机台监控数据对应的薄膜用于监控所述机台的状态; 根据所述待测数据,确定所述待测薄膜对应的厚度类别,并确定所述厚度类别对应的厚度区间; 分别将所述待测数据输入至预训练的多个膜厚预测模型,获得各膜厚预测模型输出的预测结果; 根据所述厚度区间以及所述预测结果,将所述预测结果中与所述厚度区间相匹配的预测结果确定为目标膜厚; 所述获取待测薄膜对应的待测数据之前,还包括: 获取与待测薄膜具有相同工艺流程的目标薄膜对应的目标数据,其中,所述目标数据包括所述目标薄膜对应的产品监控日志文件、机台监控日志文件、所述目标薄膜的测量膜厚以及与机台监控数据对应的薄膜的膜厚; 根据所述目标数据,确定所述目标薄膜对应的机台监控日志文件中各项参数的权重值,所述目标薄膜对应的机台监控日志文件中各项参数的权重值用于作为所述待测数据中监控日志文件中各项参数的权重值。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司;上海集成电路研发中心有限公司,其通讯地址为:201821 上海市嘉定区叶城路1288号6幢JT2216室;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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