武汉国创科光电装备有限公司肖杨获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉国创科光电装备有限公司申请的专利一种用于制备直显模组黑色掩膜的喷印系统及方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115958897B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202310033283.9,技术领域涉及:B41J3/407;该发明授权一种用于制备直显模组黑色掩膜的喷印系统及方法是由肖杨;雷春耀;董甜设计研发完成,并于2023-01-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于制备直显模组黑色掩膜的喷印系统及方法在说明书摘要公布了:本发明属于新型显示器件制备相关技术领域,并公开了一种用于制备直显模组黑色掩膜的喷印系统,其包括防护罩以及整体放置于该防护罩内部的基板载台、运动平台单元、打印模组、UV固化单元、第一检测单元和第二检测单元。本发明还公开了相应的喷印方法,其中通过结合上述喷印系统的多运动自由度和多功能检测特性,相应可采用开窗打印的方式来提高黑色掩膜的打印成膜效果,同时可引入跟随固化方式来获得不同的打印效果。通过本发明,不仅能够以灵活可控、高效可靠的方式在直显模组上制备形成黑色掩膜,而且可进一步提升包括显示亮度及对比度等指标在内的打印质量,同时可根据不同需求来获得哑光和镜面等效果。
本发明授权一种用于制备直显模组黑色掩膜的喷印系统及方法在权利要求书中公布了:1.一种用于制备直显模组黑色掩膜的喷印系统,其特征在于,该喷印系统包括防护罩、以及整体放置于该防护罩内部的基板载台、运动平台单元、打印模组、UV固化单元、第一检测单元和第二检测单元,其中: 所述基板载台用于放置待喷印黑色掩膜的直显模组,它装载在所述运动平台单元的X轴上且带动直显模组一同沿着X轴方向运动; 所述打印模组装载在所述运动平台单元上的Z轴上,并且可随该Z轴一起沿着所述运动平台单元的Y轴运动,用于执行黑色掩膜的喷墨打印动作;所述打印模组被设计为根据非加工区域的尺寸参数来设定开窗打印参数以便执行后续的开窗打印,其中所述开窗打印是指将加工区域所形成的湿膜膜层与相邻的各个非加工区域之间保持一定的距离,也即将各个非加工区域的四个边缘与相邻墨滴之间的距离参数分别设定为D1、D2、D3、D4,并且这些距离参数D1、D2、D3、D4均大于墨滴流动成膜后的平均半径R,相应在完成整个扫描打印及墨滴流动后会形成一种类似开窗的结构,进而可减少墨滴沾污非加工区域的现象; 所述UV固化单元设置在所述打印模组的一侧,它装载在所述运动平台单元的Z轴上且随同所述打印模组一起运动,用于对喷墨打印之后的直显模组执行UV固化; 所述第一检测单元装载在所述运动平台单元的X1轴上,用于对所述打印模组的喷墨打印效果进行检测; 所述第二检测单元设置在所述打印模组的另外一侧,它装载在所述运动平台单元的Z轴上且可随该Z轴一起沿着所述Y轴运动,用于在所述开窗打印之前扫描测量直显模组上的布局状态,并测量获得其表面上的加工区域与非加工区域各自的尺寸参数,以及用于在所述开窗打印之后对加工区域所形成的湿膜膜层与相邻的各个非加工区域四个边缘之间的实际距离参数进行检测; 所述运动平台单元具备多个运动轴,包括所述Y轴、Z轴和双X轴也即彼此平行的X轴和X1轴,并用于分别驱动上述基板载台、打印模组、UV固化单元、第一检测单元和第二检测单元来实现它们各自方向上的运动;此外,所述距离参数D1、D2、D3、D4采用如下方式来进行优化调整,然后采用优化调整后的距离参数来执行所述开窗打印: 首先,在一个预设的加工区域内间隔喷射N滴墨滴,待这些墨滴流动结束后,通过所述第二检测单元来检测所有墨滴成膜后的半径R1、R2、R3、…、RN,并得到平均半径R=; 接着,采用初始设定的所述距离参数D1、D2、D3、D4对上述加工区域进行喷墨打印及固化成膜,并形成m个开窗结构; 接着,采用所述第二检测单元检测测量上述加工区域的成膜边缘到各个非加工区域的四个边缘之间的实际距离参数:d11、d12、d13……d1m;d21、d22、d23……d2m;d31、d32、d33……d3m;d41、d42、d43……d4m; 接着,计算得出上述实际距离参数的平均值d1、d2、d3、d4: d1=; d2=; d3=; d4=; 接着,根据上述平均值来计算获得优化后的距离参数D1~、D2~、D3~、D4~: D1~=d1+R;D2~=d2+R;D3~=d3+R;D4~=d3+R。
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