江苏中能硅业科技发展有限公司陈其国获国家专利权
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龙图腾网获悉江苏中能硅业科技发展有限公司申请的专利一种颗粒硅的生产方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117534074B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311621296.4，技术领域涉及：C01B33/03；该发明授权一种颗粒硅的生产方法是由陈其国;兰天石;陈辉;王彬设计研发完成，并于2023-11-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种颗粒硅的生产方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种颗粒硅的生产方法，通过调节进料原料气浓度，实现形成在流化床内壁形成浓度圈层的目的，在石墨内件内壁沉积硅达到一定厚度，导致温度差时，应力被浓度圈层降低或削弱，避免应力在释放时直接破坏流化床内壁的石墨内件，通过浓度圈层的形成将流化床内壁表面沉积硅的应力分散，有利于延长流化床连续运行时间，避免因石墨件破裂降低产品质量或和停产维护检修，实现流化床的长期稳定运行，延长流化床运行周期的目的。
本发明授权一种颗粒硅的生产方法在权利要求书中公布了：1.一种颗粒硅的生产方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤： 在反应开始后，在650-1200℃下，在流化床生产颗粒硅时，通过调整进气气体中硅源气体的体积浓度，在流化床反应器内壁形成2-50层浓度圈层，使得在相邻浓度圈层之间的沉积的硅密度不同； 所述浓度圈层为在不同进气气体中硅源气体的浓度下形成的不同密度和结晶度的环形沉积硅层； 在形成浓度圈层时，所述硅源气体浓度的体积浓度差异为2-20%；在形成浓度圈层时，所述硅源气体浓度原料中硅源气体体积浓度为2-50%；所述浓度圈层厚度为0.1-4cm；所述流化床内壁还包括涂层，所述浓度圈层沉积在流化床内壁涂层上。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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