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龙图腾网获悉赫智科技(苏州)有限公司申请的专利一种基于阵列的光刻参数确定方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118884782B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411108599.0，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种基于阵列的光刻参数确定方法及系统是由陶一晨;姚兆阳;吴阳;严振中;庄卓设计研发完成，并于2024-08-13向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于阵列的光刻参数确定方法及系统在说明书摘要公布了：本公开涉及一种基于阵列的光刻参数确定方法及系统，方法包括获取阵列变量集合以及上述阵列变量集合中的每个变量的赋值范围，上述阵列变量集合中的任一变量指示一项独立的光刻参数；基于上述阵列变量集合，生成参数阵列，上述参数阵列中的任一单元指示一个光刻参数组合，上述光刻参数组合包括上述阵列变量集合中的全部变量，且不同上述单元中光刻参数组合的赋值不同；基于上述参数阵列，进行阵列光刻打印，得到阵列光刻结果；在阵列光刻结果符合测试条件的情况下，将对应的阵列单元的光刻参数组合确定为标准光刻参数组合。本公开可以在一次或少数次光刻操作中，就能得到合格光刻结果的光刻参数组合，减少时间消耗和材料消耗，提高效率。

本发明授权一种基于阵列的光刻参数确定方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种基于阵列的光刻参数确定方法，其特征在于，包括： 获取阵列变量集合以及所述阵列变量集合中的每个变量的赋值范围，所述阵列变量集合中的任一变量指示一项独立的光刻参数； 基于所述阵列变量集合中的每个变量的赋值范围，确定变量变化数集合，所述变量变化数集合中的任一元素指示所述阵列变量集合中对应变量的变化总数； 对所述变量变化数集合内的所有元素求积，得到目标单元总数，并基于所述目标单元总数生成空白阵列，所述空白阵列中任一单元均配置有光刻参数组合，对于所述阵列变量集合中的任一变量，建立变量参数值相对于所述空白阵列中各个单元的对应关系，基于所述对应关系，按序依次对所述空白阵列中各个单元中光刻参数组合赋值，生成参数阵列，所述参数阵列中的任一单元指示一个光刻参数组合，所述光刻参数组合包括所述阵列变量集合中的全部变量，且不同所述单元中光刻参数组合的赋值不同； 基于所述参数阵列，进行阵列光刻打印，得到阵列光刻结果； 在阵列光刻结果符合测试条件的情况下，将对应的阵列单元的光刻参数组合确定为标准光刻参数组合。

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