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龙图腾网获悉无锡影速半导体科技有限公司申请的专利光刻成像的背面对准方法、装置、系统、设备和介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118778382B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411119540.1，技术领域涉及：G03F9/00；该发明授权光刻成像的背面对准方法、装置、系统、设备和介质是由窦志前;罗宜清;于鹏;顾伟;李振杰;王怀;吴长江设计研发完成，并于2024-08-15向国家知识产权局提交的专利申请。

本光刻成像的背面对准方法、装置、系统、设备和介质在说明书摘要公布了：本申请涉及一种光刻成像的背面对准方法、装置、设备、介质和产品，其中方法包括：获取第一曝光图像和第二曝光图像；根据第一曝光图像及预设的正面坐标系原点建立正面坐标系，并根据第二曝光图像及预设的背面坐标系原点建立背面坐标系；将第一曝光图像和第二曝光图像分别拆分成相对应的多个第一曝光子图像和多个第二曝光子图像；根据预设的坐标转换点确定方法，确定各第二曝光子图像中的子坐标转换点，并根据子坐标转换点建立子坐标转换关系；根据各子坐标转换关系，将背面坐标系原点坐标转换为背面起始坐标，并根据背面起始坐标建立新的背面坐标系。本申请采用上述方法，可以提升待光刻对象在背面对准时的精确性以及最终制得的产品的质量。

本发明授权光刻成像的背面对准方法、装置、系统、设备和介质在权利要求书中公布了：1.一种光刻成像的背面对准方法，应用于待光刻对象所适用的光刻成像系统，所述光刻成像系统包括正面相机和背面相机，所述正面相机和所述背面相机位于所述待光刻对象的正反两侧，其特征在于，所述方法包括： 获取第一曝光图像和第二曝光图像，所述第一曝光图像为所述待光刻对象正面光刻后被所述正面相机采集到的图像，所述第二曝光图像为正面光刻后的待光刻对象翻转后被所述背面相机采集到的图像； 根据所述第一曝光图像及预设的正面坐标系原点，建立关于所述第一曝光图像的正面坐标系，并根据所述第二曝光图像及预设的背面坐标系原点，建立关于所述第二曝光图像的背面坐标系； 将所述第一曝光图像和所述第二曝光图像分别拆分成相对应的多个第一曝光子图像和多个第二曝光子图像； 根据预设的坐标转换点确定方法，确定各所述第二曝光子图像中的子坐标转换点，并根据所述子坐标转换点分别建立关于所述正面坐标系和所述背面坐标系的各子图像的子坐标转换关系； 根据各所述子坐标转换关系，将所述背面坐标系原点坐标转换为背面起始坐标，所述背面起始坐标为所述背面坐标系原点在所述正面坐标系中的坐标，并根据所述背面起始坐标建立新的背面坐标系，以实现所述待光刻对象的背面对准。

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