南方科技大学温瑞涛获国家专利权
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龙图腾网获悉南方科技大学申请的专利一种正交晶相Nb18V4O55电致变色薄膜及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119392167B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411370574.8，技术领域涉及：C23C14/08；该发明授权一种正交晶相Nb18V4O55电致变色薄膜及其制备方法和应用是由温瑞涛;区哲轩设计研发完成，并于2024-09-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种正交晶相Nb18V4O55电致变色薄膜及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明涉及电致变色技术领域，尤其涉及一种正交晶相Nb18V4O55电致变色薄膜及其制备方法和应用。所述正交晶相Nb18V4O55电致变色薄膜不仅具有优异的电致变色能力，还能以材料本征性质实现电致变色双波段调控的“暖态”模式，同时具有很大的光学调制幅度，并且该电致变色薄膜还具有快速动力学响应和循环稳定性高的特点，这些特性使得其在智能窗、显示设备等领域具有商业应用的潜力。
本发明授权一种正交晶相Nb18V4O55电致变色薄膜及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种正交晶相Nb18V4O55材料在电致变色薄膜中的应用；所述电致变色薄膜为可见光和近红外顺序调控的双波段电致变色膜； 所述电致变色薄膜能实现电致变色双波段调控的“暖态”模式，即先降低可见光波段的透过率而近红外波段透过率保持不变，随着电压的持续降低，扩大为整个可见光和近红外的下降； 所述电致变色薄膜的制备方法，包括步骤： 采用磁控溅射方法在基片表面共溅射金属Nb和金属V，在基片表面得到无定形Nb18V4O55薄膜； 对所述无定形Nb18V4O55薄膜进行退火处理，得到电致变色薄膜； 所述金属Nb和金属V的元素摩尔比例为1：0.2～0.45。
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