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龙图腾网获悉芯恩(青岛)集成电路有限公司申请的专利获取光刻图案关键尺寸的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119361462B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411480654.9，技术领域涉及：H01L21/66；该发明授权获取光刻图案关键尺寸的方法是由严振;姜峰;崔朋;孙福广设计研发完成，并于2024-10-22向国家知识产权局提交的专利申请。

本获取光刻图案关键尺寸的方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种获取光刻图案关键尺寸的方法。该方法包括：提供晶圆，晶圆表面形成有图案化的光阻层，图案化的光阻层包括互补的光阻图案和空隙图案，光阻图案和空隙图案对应的掩模版图案的关键尺寸相等；使用扫描电子显微镜测量机台的电子束对光阻图案和空隙图案均进行多次扫描，获得光阻图案的多个图像帧和空隙图案的多个图像帧；将光阻图案的多个图像帧进行叠图获得第一图片，将空隙图案的多个图像帧进行叠图获得第二图片；基于第一图片测量光阻图案关键尺寸获得第一关键尺寸，基于第二图片测量空隙图案关键尺寸获得第二关键尺寸；计算第一关键尺寸和第二关键尺寸的均值作为图案关键尺寸测量值。如此获得的图案关键尺寸测量值精度高。

本发明授权获取光刻图案关键尺寸的方法在权利要求书中公布了：1.一种获取光刻图案关键尺寸的方法，其特征在于，包括： 提供晶圆，所述晶圆表面形成有图案化的光阻层，光阻层的图案化过程中使用掩模版进行曝光，所述图案化的光阻层包括至少一个光阻图案和至少一个空隙图案，所述光阻图案为所述光阻层图案化过程中保留部分光阻形成，所述空隙图案为所述光阻层图案化过程中去除部分光阻形成，所述光阻图案和所述空隙图案对应的掩模版图案的关键尺寸相等； 使用扫描电子显微镜测量机台的电子束对所述光阻图案和所述空隙图案均进行多次扫描，获得所述光阻图案的多个图像帧和所述空隙图案的多个图像帧，其中，扫描所述光阻图案和所述空隙图案的扫描条件相同； 将所述光阻图案的多个图像帧进行叠图获得包括所述光阻图案图像的第一图片，将所述空隙图案的多个图像帧进行叠图获得包括所述空隙图案图像的第二图片； 基于所述第一图片测量所述光阻图案的关键尺寸获得第一关键尺寸，基于所述第二图片测量所述空隙图案的关键尺寸获得第二关键尺寸；以及 计算所述第一关键尺寸和所述第二关键尺寸的均值作为所述图案化的光阻层的图案关键尺寸测量值。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人芯恩(青岛)集成电路有限公司，其通讯地址为：266000 山东省青岛市黄岛区太白山路19号德国企业南区401；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。