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芯恩(青岛)集成电路有限公司王赛臣获国家专利权

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龙图腾网获悉芯恩(青岛)集成电路有限公司申请的专利一种吸附装置及离子注入机获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223382248U

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202422613552.1,技术领域涉及:B08B15/04;该实用新型一种吸附装置及离子注入机是由王赛臣设计研发完成,并于2024-10-28向国家知识产权局提交的专利申请。

一种吸附装置及离子注入机在说明书摘要公布了:本实用新型提供了一种吸附装置及离子注入机,通过设置在离子注入机的发射端和接收端之间N个吸附挡板,所有的吸附挡板围成吸附通道,其中,N为正整数;至少一个吸附挡板上连接有第一管道,且吸附挡板内部中空形成第一空间;第一管道与第一空间相连通;第一管道,用于通入液态介质对吸附挡板进行降温,以吸附发射端发射的离子穿过吸附通道进行离子注入产生的溅射物,以及排出液态介质回温后产生的气体。离子注入过程中,吸附挡板对产生的溅射物进行吸附,减少溅射的影响,同时降低离子的散射程度与剂量损失,保证工艺质量,防止机台污染,利用气体介质的冷却和回温来实现对溅射物的吸收和释放。

本实用新型一种吸附装置及离子注入机在权利要求书中公布了:1.一种吸附装置,应用于离子注入机,其特征在于,包括设置在离子注入机的发射端和接收端之间N个吸附挡板,所有的吸附挡板围成吸附通道,其中,N为正整数; 至少一个吸附挡板上连接有第一管道,且所述吸附挡板内部中空形成第一空间; 所述第一管道与所述第一空间相连通; 所述第一管道,用于通入液态介质对所述吸附挡板进行降温,以吸附所述发射端发射的离子穿过所述吸附通道进行离子注入产生的溅射物,以及排出所述液态介质回温后产生的气体。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人芯恩(青岛)集成电路有限公司,其通讯地址为:266000 山东省青岛市黄岛区太白山路19号德国企业南区401;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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