江苏先导微电子科技有限公司张凯敏获国家专利权
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龙图腾网获悉江苏先导微电子科技有限公司申请的专利真空沉积装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223386217U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422617810.3，技术领域涉及：C23C14/50；该实用新型真空沉积装置是由张凯敏;聂伟华;何坤鹏设计研发完成，并于2024-10-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本真空沉积装置在说明书摘要公布了：本申请提供了一种真空沉积装置，涉及表面工程技术领域。真空沉积装置包括真空腔以及设置于真空腔内的沉积室、机架、承载台和旋转平台，沉积室设置于机架上，沉积室具有与内部相连通的开口，旋转平台设置于机架上且与开口相对应，承载台位于沉积室内且靠近开口，承载台靠近开口的一侧经开口伸出沉积室并设置于旋转平台上；在实际的应用中，可将待加工工件放置于沉积室内的承载台上，并将气体材料从真空腔外引入沉积室，随后可利用旋转平台驱动承载台匀速旋转，以通过承载台带动待加工工件匀速旋转，最终使得气体材料均匀沉积在待加工工件的表面上。基于此，本申请可以提升真空沉积时工件表面上所形成的薄膜的厚度均匀性。
本实用新型真空沉积装置在权利要求书中公布了：1.一种真空沉积装置，其特征在于，包括真空腔、沉积室、机架、承载台和旋转平台，所述沉积室、所述机架、所述承载台和所述旋转平台均设置于所述真空腔内，所述沉积室设置于所述机架上，所述沉积室具有与内部相连通的开口，所述旋转平台设置于所述机架上且与所述开口相对应，所述承载台位于所述沉积室内且靠近所述开口，所述承载台靠近所述开口的一侧经所述开口伸出所述沉积室并设置于所述旋转平台上，其中： 所述承载台，用于放置待加工工件； 所述沉积室，用于接收从所述真空腔外引入的气体材料； 所述旋转平台，用于驱动所述承载台匀速旋转，并带动所述待加工工件同步旋转，使得所述气体材料均匀沉积在所述待加工工件的表面上。
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