上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司徐安强获国家专利权
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龙图腾网获悉上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司申请的专利一种光掩模二次涂胶机腔体清洗装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223382145U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422659316.3，技术领域涉及：B08B3/02；该实用新型一种光掩模二次涂胶机腔体清洗装置是由徐安强;徐龙;刘成设计研发完成，并于2024-10-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光掩模二次涂胶机腔体清洗装置在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种光掩模二次涂胶机腔体清洗装置，应用于涂胶机涂胶腔体清洗技术领域，清洗装置内部设置有内腔，清洗装置的顶面设置有注液口，清洗装置的侧面设置有至少一个出液口；清洗装置可嵌入旋转平台与旋转平台固定连接，出液口与清洗装置的底面之间的预设距离大于清洗装置嵌入旋转平台的嵌入高度，使清洗装置固定于旋转平台后出液口裸露在旋转平台上方。在使用过程中将清洗装置嵌入旋转平台固定，通过喷淋头可以从清洗装置顶面的注液口向内腔注入清洗液，通过旋转平台带动清洗装置沿周向旋转可以将内腔中的清洗液从出液口甩出至涂胶腔体侧壁进行清洗，从而可以在避免二次污染的同时实现对涂胶腔体侧壁的光刻胶残留物进行清洗。
本实用新型一种光掩模二次涂胶机腔体清洗装置在权利要求书中公布了：1.一种光掩模二次涂胶机腔体清洗装置，其特征在于，所述清洗装置具有相对设置的顶面和底面，以及连接所述顶面与所述底面的侧面；所述清洗装置内部设置有内腔，所述清洗装置的顶面设置有注液口，所述清洗装置的侧面设置有至少一个出液口，所述注液口与所述出液口均与所述内腔相互连通； 所述清洗装置可嵌入旋转平台与所述旋转平台固定连接，所述出液口与所述清洗装置的底面之间的预设距离大于所述清洗装置嵌入所述旋转平台的嵌入高度，使所述清洗装置固定于旋转平台后所述出液口裸露在所述旋转平台上方。
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