武汉理工大学吕海飞获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉理工大学申请的专利一种基于双耦合结构的超透镜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119310657B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411593844.1，技术领域涉及：G02B1/00；该发明授权一种基于双耦合结构的超透镜是由吕海飞;张凯威;郜洪云;黎敏;李明钰;文晓艳;邓硕;刘思思设计研发完成，并于2024-11-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于双耦合结构的超透镜在说明书摘要公布了：本发明提出了一种基于双耦合结构的超透镜，涉及光学变焦领域，包括基底和设置于所述基底上的相位波阵面，所述相位波阵面由多个周期性排列的纳米柱构成，根据每个纳米柱所处位置点赋予对应的相位分布值，以将入射至所述相位波阵面的平面波转换为聚焦在指定焦距处的光束，其中，每个纳米柱均具有相同的矩形横截面，且在所述纳米柱长轴方向上设置有狭缝，所述狭缝贯穿所述纳米柱并延伸至所述基底的表面，以使所述纳米柱形成双耦合结构。本发明有助于提升超透镜的聚焦效率。
本发明授权一种基于双耦合结构的超透镜在权利要求书中公布了：1.一种基于双耦合结构的超透镜，其特征在于，包括基底和设置于所述基底上的相位波阵面，所述相位波阵面由多个周期性排列的纳米柱构成，根据每个纳米柱所处位置点赋予对应的相位分布值，以将入射至所述相位波阵面的平面波转换为聚焦在指定焦距处的光束，其中，每个纳米柱均具有相同的矩形横截面，且在所述纳米柱长轴方向上设置有狭缝，所述狭缝贯穿所述纳米柱并延伸至所述基底的表面，以使所述纳米柱形成双耦合结构； 所述纳米柱的长度为390nm~410nm，所述纳米柱的宽度为207nm~217nm，所述纳米柱的高度为890nm~910nm，所述狭缝的宽度为20nm~24nm； 任意两个相邻纳米柱的几何中心点之间的直线距离为500nm。
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