东北师范大学郭非凡获国家专利权
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龙图腾网获悉东北师范大学申请的专利一种S阴离子修饰的ReB2催化剂、制备方法及其在宽pH值电催化水裂解制氢中的应用获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119465265B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411597263.5,技术领域涉及:C25B11/091;该发明授权一种S阴离子修饰的ReB2催化剂、制备方法及其在宽pH值电催化水裂解制氢中的应用是由郭非凡;吴园园;杨进;段晓婷设计研发完成,并于2024-11-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种S阴离子修饰的ReB2催化剂、制备方法及其在宽pH值电催化水裂解制氢中的应用在说明书摘要公布了:一种S阴离子修饰的ReB2催化剂、制备方法及其在宽pH值电催化水裂解制氢中的应用,属于催化剂合成及电催化裂解水应用技术领域。本发明提出了一种S阴离子修饰的ReB2催化剂的熔盐辅助制备方法,其是在相对温和的条件下一步合成S阴离子掺杂二硼化物电催化剂S‑ReB2,纳米片状形貌有利于暴露更多的催化活性位点,同时S的掺杂调节了催化剂中金属Re的电子结构,使得S‑ReB2在不同pH值的电解质中对电催化析氢反应HER均表现优异的催化性能。本发明所制备的S阴离子修饰的ReB2催化剂改善了金属硼化物在强酸碱强氧化条件下催化剂极易被腐蚀的问题,提高了电能转化为化学能的能源转换效率。
本发明授权一种S阴离子修饰的ReB2催化剂、制备方法及其在宽pH值电催化水裂解制氢中的应用在权利要求书中公布了:1.一种S阴离子修饰的ReB2催化剂的制备方法,其特征在于:首先将铼源、硼源和硫源均匀混合,充分研磨得到混合物A;然后将氯化钠、氯化钾与混合物A均匀混合,再次充分研磨后得到混合物B;将混合物B在Ar气体环境中高温煅烧;煅烧后降至室温,将得到的产物放入去离子水中充分搅拌清洗,移除上清液后所得沉淀加入乙醇洗涤,离心收集沉淀,烘干后得到S阴离子修饰的ReB2催化剂;其中,铼源、硼源与硫源的用量摩尔比为1:1~5:0.4~2;氯化钠与氯化钾的用量摩尔比为1:1~2;铼源与氯化钠的用量摩尔比为1:30~40;高温煅烧的温度为650~1000℃,高温煅烧的时间为120~195min,高温煅烧时的升温速率为3~6℃min-1;硫源为硫粉、硫脲、硫代乙酰胺、硫醇中的一种或几种的混合物;铼源为铼粉、二氧化铼、铼酸铵中的一种或几种的混合物;硼源为无定形硼粉、硼氢化钠、三氯化硼中的一种或几种的混合物。
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