江苏先导微电子科技有限公司杨帅伟获国家专利权
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龙图腾网获悉江苏先导微电子科技有限公司申请的专利真空镀膜设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223386216U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422779117.6，技术领域涉及：C23C14/35；该实用新型真空镀膜设备是由杨帅伟;蔡海军;范继安;刘健;黄周师;何坤鹏设计研发完成，并于2024-11-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本真空镀膜设备在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种真空镀膜设备，涉及磁控溅射技术领域；真空镀膜设备包括真空腔体以及设于真空腔体内的溅射靶源和偏压板；溅射靶源连接负极电源，设有两个，两个溅射靶源竖直且相对设置；每一溅射靶源包括磁性组件和竖直设置的靶材，靶材用于提供溅射粒子，磁性组件用于在靶材表面产生工作磁场；偏压板包括水平且相对设置的正极偏压板和负极偏压板；正极偏压板设于溅射靶源的上侧，连接正极电源；负极偏压板设于溅射靶源的下侧，连接负极电源；溅射粒子在工作磁场和偏压板形成的偏压电场的共同作用下，绕射至位于溅射靶源和负极偏压板之间的沉积区域。本实用新型提出的真空镀膜设备能提高磁控溅射镀膜质量。
本实用新型真空镀膜设备在权利要求书中公布了：1.一种真空镀膜设备，其特征在于，包括： 真空腔体； 溅射靶源；所述溅射靶源设有两个，两个所述溅射靶源竖直且相对设置于所述真空腔体内，所述溅射靶源连接负极电源；每一所述溅射靶源包括磁性组件和竖直设置的靶材，所述靶材用于提供溅射粒子，所述磁性组件用于在所述靶材表面产生工作磁场； 偏压板，设于所述真空腔体内，包括水平且相对设置的正极偏压板和负极偏压板；所述正极偏压板设于所述溅射靶源的上侧，连接正极电源；所述负极偏压板设于所述溅射靶源的下侧，连接负极电源； 所述溅射粒子可在所述工作磁场和所述偏压板形成的偏压电场的共同作用下，绕射至位于所述溅射靶源和所述负极偏压板之间的沉积区域。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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