国科大杭州高等研究院胡乃夫获国家专利权
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龙图腾网获悉国科大杭州高等研究院申请的专利利用二氧化碳合成吡唑酮类结构的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119638628B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411671662.1，技术领域涉及：C07D231/26；该发明授权利用二氧化碳合成吡唑酮类结构的方法是由胡乃夫;胡有洪;欧阳俊;王凯;尹丽君;杨扩琦设计研发完成，并于2024-11-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本利用二氧化碳合成吡唑酮类结构的方法在说明书摘要公布了：本发明涉及吡唑酮的合成领域，针对利用羰基化反应合成吡唑酮需要昂贵的过渡金属催化剂和高毒性的一氧化碳的问题，提供利用二氧化碳合成吡唑酮类结构的方法，反应式如下：反应条件为：二氧化碳氛下，在有机溶剂中，在碱的作用下，将化合物II与二氧化碳进行反应，即得吡唑酮类结构。本发明利用二氧化碳绿色、高效地合成吡唑酮类结构。
本发明授权利用二氧化碳合成吡唑酮类结构的方法在权利要求书中公布了：1.利用二氧化碳合成吡唑酮类结构的方法，其特征在于包括： 二氧化碳气氛下，在有机溶剂中，在碱作用下，化合物II与二氧化碳反应得吡唑酮类结构I； 反应式如下： R1、R2、R3独立地选自氢、C1-C6的烷基、C6-C16的芳基、有取代基的苯基； 碱为叔丁醇锂、叔丁醇钠、叔丁醇钾、碳酸锂、碳酸钠、碳酸钾、碳酸铯、氟化铯、1，8-二氮杂双环[5.4.0]十一碳-7-烯、1，5-二氮杂双环[4.3.0]壬-5-烯、1，4-二氮杂二环[2.2.2]辛烷、氢氧化锂、氢氧化钠、氢氧化钾、三乙胺中的一种或多种； 取代基为C1-C10的烷基、C1-C10的烷氧基、卤素中的一种。
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