武汉华星光电半导体显示技术有限公司李林涛获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉华星光电半导体显示技术有限公司申请的专利显示面板及显示装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119730599B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411825101.2,技术领域涉及:H10K59/12;该发明授权显示面板及显示装置是由李林涛;吴凯龙设计研发完成,并于2024-12-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本显示面板及显示装置在说明书摘要公布了:本申请提供了一种显示面板及显示装置,该显示面板包括阵列基板和发光器件层,发光器件层包括阳极层、第一发光器件层、第二发光器件层和阴极层,通过减小第一电子阻挡单元或者第三电子阻挡单元的厚度,并减小第二电子阻挡单元或第四电子阻挡单元厚度,如此可以在减少掩膜板的数量同时,避免刻蚀形成的不同膜层之间的相对位置发生偏移,从而可以确保发光器件层中的微腔结构的一致性和稳定性,从而可以提高显示面板中的发光器件的出光效率。
本发明授权显示面板及显示装置在权利要求书中公布了:1.一种显示面板,其特征在于,包括阵列基板和发光器件层,所述发光器件层设置于所述阵列基板上,所述发光器件层包括: 阳极层,设置于所述阵列基板上; 第一发光器件层,设置于所述阳极层上,所述第一发光器件层包括第一电子阻挡层和第一发光层,所述第一电子阻挡层设置于所述阳极层上,所述第一电子阻挡层包括第一电子阻挡单元、第二电子阻挡单元和第五电子阻挡单元;所述第一发光层设置于所述第一电子阻挡层上,所述第一发光层包括第一发光单元、第二发光单元和第五发光单元,所述第一发光单元设置于所述第一电子阻挡单元上,所述第二发光单元设置于所述第二电子阻挡单元上,所述第五发光单元设置于所述第五电子阻挡单元上; 第二发光器件层,设置于所述第一发光器件层上,所述第二发光器件层包括第二电子阻挡层和第二发光层,所述第二电子阻挡层设置于所述第一发光层上,所述第二电子阻挡层包括第三电子阻挡单元、第四电子阻挡单元和第六电子阻挡单元,所述第三电子阻挡单元设置于所述第一发光单元上,所述第四电子阻挡单元设置于所述第二发光单元上;所述第二发光层设置于所述第二电子阻挡层上,所述第二发光层包括第三发光单元、第四发光单元和第六发光单元,所述第三发光单元设置于所述第三电子阻挡单元上,所述第四发光单元设置于所述第四电子阻挡单元上,所述第六发光单元设置于所述第六电子阻挡单元上; 阴极层,设置于所述第二发光器件层上; 其中,所述第一电子阻挡单元和所述第三电子阻挡单元的其中之一的厚度小于其中另一的厚度,所述第二电子阻挡单元和所述第四电子阻挡单元的其中之一的厚度小于其中另一的厚度;所述第一电子阻挡单元和所述第三电子阻挡单元的厚度之和,与所述第五电子阻挡单元和所述第六电子阻挡单元中任意一者的厚度的比值R1满足:4≤R1≤6;所述第二电子阻挡单元和所述第四电子阻挡单元的厚度之和,与所述第五电子阻挡单元和所述第六电子阻挡单元中任意一者的厚度的比值R2满足:14≤R2≤16。
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