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龙图腾网获悉齐鲁工业大学(山东省科学院)申请的专利一种不含氢氟酸的湿法刻蚀液及其制备方法与应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119799337B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510017513.1，技术领域涉及：C09K13/04；该发明授权一种不含氢氟酸的湿法刻蚀液及其制备方法与应用是由朱汉飞;王海建;罗红钰;曹晓杰;李欣然;牛渊博设计研发完成，并于2025-01-06向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种不含氢氟酸的湿法刻蚀液及其制备方法与应用在说明书摘要公布了：本发明属于电子材料微细加工技术领域，具体涉及一种不含氢氟酸的湿法刻蚀液及其制备方法与应用，该刻蚀液由纯净水：盐酸：双氧水：硝酸按体积配比为1～5：1～10：0.1～3：0.1～3混合而成。本发明所述刻蚀液不含高剧毒、易挥发、极强腐蚀性氢氟酸成分，配方简单、安全性更高，对人体伤害和环境污染程度显著降低，且所需原料更容易购得，可干净、彻底、高效所需时间仅为10～100秒地一次性去除Si、SiO2或Pt基底表面的单一铁电膜材料或多层铁电复合膜材料，得到边缘完整、清晰、几乎无侧向腐蚀的刻蚀图形。

本发明授权一种不含氢氟酸的湿法刻蚀液及其制备方法与应用在权利要求书中公布了：1.一种铁电膜材料湿法刻蚀的方法，其特征在于，包括以下步骤： （1）将光刻胶旋凃在需要刻蚀的铁电膜材料表面，经处理后，得到带有图形化的光刻胶层的铁电膜材料； （2）将带有图形化的光刻胶层的铁电膜材料置于不含氢氟酸的湿法刻蚀液中刻蚀，去除铁电膜材料表面残留的刻蚀液后，得到刻蚀后的铁电膜材料； （3）将刻蚀后的铁电膜材料置于光刻胶剥离液中对光刻胶剥离，去除光刻胶剥离液后，得到含有图形化刻蚀图案的铁电膜材料； 步骤（2）中，刻蚀的温度为25~60℃，刻蚀的时间为10～100秒； 所述不含氢氟酸的湿法刻蚀液，包括纯净水、盐酸、双氧水和硝酸，不含有氢氟酸；所述纯净水：盐酸：双氧水：硝酸的体积配比为（1～5）：（1～10）：（0.1～3）：（0.1～3）； 所述盐酸的质量浓度为36～38%； 所述双氧水的质量浓度为25~30%； 所述硝酸的质量浓度为65～68%； 所述纯净水为超纯水、去离子水和蒸馏水中的一种； 所述铁电膜材料为单一的膜材料或多层复合膜材料； 所述单一的膜材料为铁酸铋、钛酸钡、锆钛酸铅和钛酸锶薄膜中的一种； 所述多层复合膜材料为铁酸铋、钛酸钡、锆钛酸铅、钛酸锶、镍酸镧中的至少两种。

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