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黑龙江大学井立强获国家专利权

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龙图腾网获悉黑龙江大学申请的专利一种金属氧簇修饰的超薄氮化碳纳米片在人工光合作用促进植物生长中的应用获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119896237B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510085227.9,技术领域涉及:A01N59/16;该发明授权一种金属氧簇修饰的超薄氮化碳纳米片在人工光合作用促进植物生长中的应用是由井立强;张紫晴;李卓;王国薇;胡康设计研发完成,并于2025-01-20向国家知识产权局提交的专利申请。

一种金属氧簇修饰的超薄氮化碳纳米片在人工光合作用促进植物生长中的应用在说明书摘要公布了:一种金属氧簇修饰的超薄氮化碳纳米片在人工光合作用促进植物生长中的应用,它涉及纳米农业技术领域。本发明的目的是要解决当前植物太阳光谱利用率低导致光合作用效率低的问题。方法:将金属氧簇修饰的超薄氮化碳纳米片配置成一定浓度的水分散液,再将金属氧簇修饰的超薄氮化碳纳米片的分散液喷施到植物的叶面,对植物具有较好的促生效果;显著提高了植物的鲜重和干重。且其对植物的促生效果与光催化剂的水氧化性能正相关。金属氧簇修饰的超薄氮化碳纳米片因其良好的稳定性、来源广泛且具有良好的生物相容性,对生态和环境友好,符合可持续发展的要求,可广泛用于作物种植。本发明为提高植物光合作用效率,促农作物增产、增收提供了新方法。

本发明授权一种金属氧簇修饰的超薄氮化碳纳米片在人工光合作用促进植物生长中的应用在权利要求书中公布了:1.一种金属氧簇修饰的超薄氮化碳纳米片在人工光合作用促进植物生长中的应用,其特征在于在人工光合作用中所述金属氧簇修饰的超薄氮化碳纳米片用于促进甜菜生长,甜菜采用土培模式进行培养,具体包括以下步骤: 将金属氧簇修饰的超薄氮化碳纳米片配置成一定浓度的水分散液,再将金属氧簇修饰的超薄氮化碳纳米片的水分散液喷施到植物的叶面; 所述的金属氧簇修饰的超薄氮化碳纳米片为:锰氧簇修饰的超薄氮化碳纳米片、钌氧簇修饰的超薄氮化碳纳米片、锰氧簇修饰的超薄硼掺杂氮化碳纳米片或钌氧簇修饰的超薄硼掺杂氮化碳纳米片; 将金属氧簇修饰的超薄氮化碳纳米片配置成一定浓度的水分散液的工艺如下:将金属氧簇修饰的超薄氮化碳纳米片加入到水中,再在超声功率为100W下超声10min~60min,得到金属氧簇修饰的超薄氮化碳纳米片的水分散液;所述的金属氧簇修饰的超薄氮化碳的水分散液的浓度为50mgL~200mgL。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人黑龙江大学,其通讯地址为:150080 黑龙江省哈尔滨市南岗区学府路74号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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