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龙图腾网获悉上海芯东来半导体科技有限公司申请的专利用于光学系统焦面检测的测试模版、检测方法及光刻机获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120370638B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-26发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510838981.5，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权用于光学系统焦面检测的测试模版、检测方法及光刻机是由请求不公布姓名设计研发完成，并于2025-06-23向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于光学系统焦面检测的测试模版、检测方法及光刻机在说明书摘要公布了：本申请提供了用于光学系统焦面检测的测试模版、检测方法及光刻机，属于光刻机技术领域，其中的测试模版由于包括了至少一个菱形测试图案，这种设计使得光学系统焦面位置的检测更为精确。菱形图案的尖端对于离焦量的变化非常敏感，这有助于识别焦面位置的微小偏差。通过使用这种测试模板，可以快速检测和调整焦面位置，从而减少生产过程中的调试时间，提高生产效率。需要说明的是，该测试模板的设计不依赖于特定的光学系统配置，因此可以广泛应用于不同的光学系统中，如光刻机、显微镜等，用于焦面位置的检测和校准。

本发明授权用于光学系统焦面检测的测试模版、检测方法及光刻机在权利要求书中公布了：1.用于光学系统焦面检测的测试模版，其特征在于，所述测试模版包括： 载体（10）； 测试模块（200），所述测试模块（200）设置在所述载体（10）上，且所述测试模块（200）包括有至少一个菱形测试图案（20001）； 所述测试模块（200）包括有至少一个测试模组（2000），所述测试模组（2000）包括有m组测试单元（20000），且每一组测试单元（20000）中均包括有n个所述菱形测试图案（20001），m≥5，n≥4； m组测试单元（20000）之间按照间隔x1以第一分布规律进行平行的分布； n个所述菱形测试图案（20001）之间按照间隔x2以第二分布规律进行平行的分布； 其中x1＞x2； m组测试单元（20000）在第一分布规律下满足：相邻两组所述测试单元（20000）中的一组测试单元（20000）能够沿着水平方向或竖直方向平移x1距离后和另外一组测试单元（20000）重合在一起； n个所述菱形测试图案（20001）在第二分布规律下满足：相邻两个所述菱形测试图案（20001）中的一个所述菱形测试图案（20001）能够沿着水平方向或竖直方向平移x2距离后和另外一个菱形测试图案（20001）重合在一起。

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