上海微电子装备(集团)股份有限公司刘洋获国家专利权
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龙图腾网获悉上海微电子装备(集团)股份有限公司申请的专利一种激光退火弧形扫描方法及激光退火装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115274432B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110485110.1，技术领域涉及：H01L21/324；该发明授权一种激光退火弧形扫描方法及激光退火装置是由刘洋;黄元昊;刘晓;王刚;苏海业;罗闻设计研发完成，并于2021-04-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种激光退火弧形扫描方法及激光退火装置在说明书摘要公布了：本发明实施例提供一种激光退火弧形扫描方法及激光退火装置，包括：提供晶圆；形成退火扫描轨迹；其中，所述退火扫描轨迹包括多条沿y方向排列的弧形的光斑轨迹，每一条所述光斑轨迹包括多个沿x方向排列的光斑，形成第i+1条光斑轨迹中第m个光斑与形成第i条光斑轨迹中第n个光斑相切，i，m，n均为正整数；沿所述x方向，第i+1条所述光斑轨迹中第m个光斑与第i条所述光斑轨迹中第n个光斑之间的距离等于所述光斑沿所述x方向的长度；按照所述退火扫描轨迹进行激光扫描，完成对所述晶圆的退火。本发明实施例提供一种激光退火弧形扫描方法及激光退火装置，以通过光斑轨迹的规划，使得退火时间不足区域完成多次退火，提高晶圆面温度的均匀性。
本发明授权一种激光退火弧形扫描方法及激光退火装置在权利要求书中公布了：1.一种激光退火弧形扫描方法，其特征在于，包括： 提供晶圆； 形成退火扫描轨迹；其中，所述退火扫描轨迹包括多条沿y方向排列的弧形的光斑轨迹，每一条所述光斑轨迹包括多个沿x方向排列的光斑，形成第i+1条所述光斑轨迹中第m个光斑与形成第i条所述光斑轨迹中第n个光斑相切，i，m，n均为正整数；沿所述x方向，第i+1条所述光斑轨迹中第m个光斑与第i条所述光斑轨迹中第n个光斑之间的距离等于所述光斑沿所述x方向的长度； 按照所述退火扫描轨迹进行激光扫描，完成对所述晶圆的退火； 所述光斑包括矩形光斑； 形成第i+1条所述光斑轨迹中第m个光斑与形成第i条所述光斑轨迹中第n个光斑相切，包括： 形成第i+1条所述光斑轨迹中第m个矩形光斑的顶点与形成第i条所述光斑轨迹中第n个矩形光斑的顶点重合。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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