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龙图腾网获悉上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司;上海集成电路研发中心有限公司申请的专利掩膜图案修正模型的训练方法及掩膜图案修正方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114332057B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111678544.X，技术领域涉及：G06T7/00；该发明授权掩膜图案修正模型的训练方法及掩膜图案修正方法是由时雪龙;燕燕;李琛;赵宇航;陈寿面设计研发完成，并于2021-12-31向国家知识产权局提交的专利申请。

本掩膜图案修正模型的训练方法及掩膜图案修正方法在说明书摘要公布了：本申请提供一种掩膜图案修正模型的训练方法及掩膜图案修正方法。该方法包括：获取光学邻近效应校正OPC前的掩膜图案和OPC后的掩膜图案；分别基于OPC前的掩膜图案和OPC后的掩膜图案，计算得到第一水平集函数和第二水平集函数；将第一水平集函数作为神经网络模型的输入，第二水平集函数作为神经网络模型的输出进行训练，得到掩膜图案修正模型。本申请提供的方法利用第一水平集函数和第二水平集函数分别表示OPC前的掩膜图案和OPC后的掩膜图案在离散网格上的图像，无需利用大量特征向量对掩膜图案邻近环境进行编码，提高了OPC的效率。

本发明授权掩膜图案修正模型的训练方法及掩膜图案修正方法在权利要求书中公布了：1.一种掩膜图案修正模型的训练方法，其特征在于，包括： 获取光学邻近效应校正OPC前的掩膜图案和OPC后的掩膜图案； 分别基于所述OPC前的掩膜图案和所述OPC后的掩膜图案，计算得到第一水平集函数和第二水平集函数，所述第一水平集函数表示所述OPC前的掩膜图案在离散网格上的图像，所述第二水平集函数表示所述OPC后的掩膜图案在离散网格上的图像； 将所述第一水平集函数作为神经网络模型的输入，所述第二水平集函数作为所述神经网络模型的输出进行训练，得到掩膜图案修正模型； 所述分别基于所述OPC前的掩膜图案和所述OPC后的掩膜图案，计算得到第一水平集函数和第二水平集函数，包括： 获取所述OPC前的掩膜图案的第一部分图案和所述OPC后的掩膜图案的第二部分图案，分别计算所述第一部分图案和所述第二部分图案的裁剪窗口中心坐标； 根据所述第一部分图案的裁剪窗口中心坐标，通过坐标平移变换，确定所述OPC前的掩膜图案的顶点坐标，并根据所述第二部分图案的窗口中心坐标，通过坐标平移变换，确定所述OPC后的掩膜图案的顶点坐标； 基于设定的第一网格矩阵构建所述第一水平集函数，基于设定的第二网格矩阵用于构建所述第二水平集函数； 将通过坐标平移变换后的所述OPC前的掩膜图案映射到所述第一网格矩阵，并将通过坐标平移变换后的所述OPC后的掩膜图案映射到所述第二网格矩阵； 在所述第一网格矩阵中识别所述第一网格矩阵中距离最接近所述OPC前的掩膜图案边的第一格点集合，并在所述第二网格矩阵中识别所述第二网格矩阵中距离最接近所述OPC后的掩膜图案边的第二格点集合； 计算所述第一格点集合中的格点与所述OPC前的掩膜图案边的第一最小距离，并计算所述第二格点集合中的格点和所述OPC后的掩膜图案边的第二最小距离； 识别所述第一格点集合中的格点与所述OPC前的掩膜图案的第一位置关系，并识别所述第二格点集合中的格点和所述OPC后的掩膜图案的第二位置关系； 根据所述第一最小距离和所述第一位置关系进行计算得到所述第一水平集函数，并根据所述第二最小距离和所述第二位置关系进行计算得到所述第二水平集函数。

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