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龙图腾网获悉英纳科(苏州)半导体科技有限公司申请的专利一种多功能高效率半导体真空镀膜与检测设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116145088B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310322898.3，技术领域涉及：C23C14/24；该发明授权一种多功能高效率半导体真空镀膜与检测设备是由王宁;张义帅设计研发完成，并于2023-03-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种多功能高效率半导体真空镀膜与检测设备在说明书摘要公布了：本发明公开了一种多功能高效率半导体真空镀膜与检测设备包括依次通过真空管路连接的第一真空仓、第二真空仓和第三真空仓；所述第一真空仓顶部形成的移动窗口内移动安装有连接杆，所述连接杆端部安装有样品台，所述第一真空仓还具有：密封组件，所述连接杆在所述移动窗口内移动时，所述密封组件始终能够保持第一真空仓内的压力稳定；移动组件，能够通过所述连接杆控制所述样品台在所述第一真空仓内移动；真空传样杆，设于所述第一真空仓侧部；本发明可解决传统的镀膜设备仅负责镀膜，无法对半导体表面形成的薄膜进行分析检测，且镀膜设备对样品进行旋转的方式为原位旋转，不能根据蒸发源的位置进行改变，影响半导体基片表面薄膜成型的均匀性。

本发明授权一种多功能高效率半导体真空镀膜与检测设备在权利要求书中公布了：1.一种多功能高效率半导体真空镀膜与检测设备，其特征在于，包括依次通过真空管路连接的第一真空仓、第二真空仓和第三真空仓； 其中，所述第二真空仓内设置有高分辨形貌检测装置，所述第三真空仓内设置有电学信号检测装置； 其中，所述第一真空仓顶部形成移动窗口，所述移动窗口内可移动安装有连接杆，所述连接杆位于所述第一真空仓内的部分安装有样品台，所述第一真空仓底部设有蒸发源组，所述第一真空仓还具有： 密封组件，包括波纹管和固定座，所述波纹管密封设于所述移动窗口上，所述固定座设置在所述波纹管的顶部，用于将所述波纹管进行密封； 移动组件，包括设于第一真空仓顶部的三个第一驱动气缸和设于所述第一真空仓顶部的第二驱动气缸，三个所述第一驱动气缸的伸出轴端可选择的夹持所述固定座，所述第二驱动气缸用于驱动所述第一驱动气缸和密封组件同步垂直移动，所述移动组件还包括设于所述固定座顶面的驱动电机，所述驱动电机用于驱动所述连接杆转动设置； 真空传样杆，设于所述第一真空仓侧部，用于将所述样品台上的基片通过真空管路可选择的取放在形貌检测装置或电学信号检测装置处； 温控组件，设于所述第一真空仓和第二真空仓之间、所述第二真空仓及第三真空仓之间的真空管路上，包括加热单元和冷却单元，用于对基片表面薄膜进行快速降温或升温； 真空闸板阀，设于所述第一真空仓和第二真空仓之间、所述第二真空仓及第三真空仓之间的真空管路上，用于控制真空管路的启闭。

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