京东方科技集团股份有限公司王蓓获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司申请的专利蒸发源装置及蒸镀设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116536633B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310679024.3，技术领域涉及：C23C14/24；该发明授权蒸发源装置及蒸镀设备是由王蓓;刘华猛;张智辉;白珊珊;李彦松;刘佳宁;王宇钊设计研发完成，并于2023-06-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本蒸发源装置及蒸镀设备在说明书摘要公布了：本公开是关于一种蒸发源装置，该蒸发源装置包括第一遮挡结构，第一遮挡结构沿第一方向设于相邻两个蒸发源之间，第一遮挡结构包括第一挡板，第一挡板可以限制相邻两个蒸发源的蒸发范围。第一挡板沿第二方向延伸的至少一侧设有第一图案化遮挡部，第一图案化遮挡部至少部分位于其中一个蒸发源的多个喷嘴的喷出区域上，第一图案化遮挡部可以进一步限制相邻两个蒸发源的蒸发分布，使得从两个蒸发源喷出的不同种发光材料的掺杂更加均匀，从而提升发光器件的发光效率及使用寿命。本公开还提供了一种包括该蒸发源装置的蒸镀设备。
本发明授权蒸发源装置及蒸镀设备在权利要求书中公布了：1.一种蒸发源装置，其特征在于，包括： 固定结构： 至少两个蒸发源，沿第一方向间隔设置于所述固定结构上，每个所述蒸发源包括沿第二方向设置的多个喷嘴，所述第一方向垂直于所述第二方向； 至少一个第一遮挡结构，所述第一遮挡结构安装于所述固定结构上，且沿第一方向设于相邻两个所述蒸发源之间； 所述第一遮挡结构包括第一挡板，所述第一挡板设于所述蒸发源远离所述固定结构的一侧，所述第一挡板沿所述第二方向延伸的至少一侧设有第一图案化遮挡部，所述第一图案化遮挡部至少部分位于其中一个所述蒸发源的多个喷嘴的喷出区域上，所述第一图案化遮挡部具有第一镂空部，所述第一镂空部的面积占所述第一图案化遮挡部的总面积的5％～95％，所述第一图案化遮挡部包括沿所述第二方向设置的多个子第一遮挡部，相邻两个所述子第一遮挡部之间形成所述第一镂空部。
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