四川师范大学董雪华获国家专利权
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龙图腾网获悉四川师范大学申请的专利一种具有大双折射率的碲基光学晶体材料及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119663451B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411893332.7，技术领域涉及：C30B29/52；该发明授权一种具有大双折射率的碲基光学晶体材料及其制备方法和应用是由董雪华;王诗怡设计研发完成，并于2024-12-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种具有大双折射率的碲基光学晶体材料及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种具有大双折射率的碲基光学晶体材料及其制备方法和应用，属于光学材料技术领域。本发明在具有立体化学活性孤对电子的Te4+阳离子中，引入有机π共轭环‑邻菲罗啉和有利于紫外截止边蓝移的Cl元素，在乙醇做溶剂的条件下，Te4+被还原得到了Te2+阳离子，此外，邻菲罗啉上两个N含孤对电子，是一个良好的双齿配体，在合成晶体的过程中，通过提供孤电子对与Te2+形成了化学配位键，有机配位键让Te2+展现出整齐一致的平面结构，使基团间排列整齐一致，有效的增大了化合物的光学各异性，得到了一种双折射率极大的光学晶体‑C12H8N2TeCl2，双折射率可达1.086@546nm。
本发明授权一种具有大双折射率的碲基光学晶体材料及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种具有大双折射率的碲基光学晶体材料，其特征在于：所述碲基光学晶体材料的化学组成为C12H8N2TeCl2，其中，C12H8N2为邻菲罗啉；碲基光学晶体材料的空间群为Pn，晶胞参数为a=4.27303Å，b=9.84537Å，c=14.786610Å，α=90°，β=97.0137°，γ=90°，Z=2。
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