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龙图腾网获悉音品电子(深圳)有限公司申请的专利压电MEMS智能扬声器制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119562197B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510123871.0，技术领域涉及：H04R19/02；该发明授权压电MEMS智能扬声器制备方法是由黄飚设计研发完成，并于2025-01-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本压电MEMS智能扬声器制备方法在说明书摘要公布了：本发明具体涉及一种压电MEMS智能扬声器制备方法，包括：根据目标频率范围利用薄膜振动频率的理论公式进行初步计算薄膜振动频率；使用有限元分析软件进行仿真模拟，预测每个振动膜的共振频率以确定各层材料；选择压电材料；选择基底材料；在基底上溅射第一电极材料，刻蚀形成所需的电极图案；沉积压电层材料，确保厚度均匀；在压电层上溅射第二电极材料，刻蚀形成所需的电极图案；测试扬声器的实际表现频率；根据测试结果调整压电层的厚度或形状：还包括采用动态算法调整压电层的厚度或形状；重新沉积压电层并进行调整；直至所有振动膜的共振频率均在目标范围内。

本发明授权压电MEMS智能扬声器制备方法在权利要求书中公布了：1.压电MEMS智能扬声器制备方法，其特征在于， 包括：根据目标频率范围利用薄膜振动频率的理论公式进行初步计算薄膜振动频率；使用有限元分析软件进行仿真模拟，预测每个振动膜的共振频率以确定各层材料； 选择压电材料；选择基底材料；在基底上溅射第一电极材料，刻蚀形成所需的电极图案；沉积压电层材料，确保厚度均匀； 在压电层上溅射第二电极材料，刻蚀形成所需的电极图案；刻蚀形成第一沟槽间隙、第二沟槽间隙和第三沟槽间隙，支撑梁采用十字交叉的垂直梁、三交叉梁或四交叉梁；在基底背面刻蚀形成背部腔； 测试扬声器的实际表现频率； 根据测试结果调整压电层的厚度或形状； 采用动态算法调整压电层的厚度或形状； 重新沉积压电层并进行调整；直至所有振动膜的共振频率均在目标范围内； 所述使用有限元分析软件进行仿真模拟，预测每个振动膜的共振频率以确定各层材料，具体包括： 基于设计的双环形环绕圆形振动膜结构，使用CAD软件创建几何模型； 输入各层材料的物理和机械属性； 定义支撑梁的固定端点作为边界条件，以及背部腔的压力条件； 对于振动膜区域，采用较细的网格划分，以提高模拟精度，在非关键区域采用较粗的网格； 在第一电极和第二电极之间施加电压，模拟扬声器工作状态下的激励； 进行频率响应分析，逐步增加激励频率，以找出各个振动膜的共振频率； 执行模态分析，提取前几阶的固有频率和对应的振型； 进一步进行频率响应分析，以确认共振频率及其对应的振型的稳定性； 将仿真结果与理论计算的结果进行对比，验证几何模型的有效性； 根据仿真结果调整压电层的厚度、形状或材料特性，以达到目标共振频率范围； 所述根据测试结果调整压电层的厚度或形状包括： 假设测试结果显示圆形振动膜的共振频率过高，则增大圆形振动膜结构的直径； 假设测试结果显示圆形振动膜的共振频率过低，则减少圆形振动膜结构的直径； 假设测试结果显示第一环形振动膜的共振频率过高，则增大第一环形振动膜结构的环宽； 假设测试结果显示第一环形振动膜的共振频率过低，则减少第一环形振动膜结构的环宽； 假设测试结果显示第二环形振动膜的共振频率过高，则增大第二环形振动膜结构的环宽； 假设测试结果显示第二环形振动膜的共振频率过低，则减少第二环形振动膜结构的环宽； 所述根据测试结果调整压电层的厚度或形状，还包括获取振动膜结构的修改过程数据，采用粒子群优化算法调整振动膜结构的修改量；所述获取振动膜结构的修改过程数据，采用粒子群优化算法调整振动膜结构的修改量，具体包括： 基于前期测试，整理出每个振动膜的实际共振频率数据； 确定需要优化的参数，包括压电层厚度和振动膜直径； 设置粒子群的大小； 随机初始化每个粒子的位置和速度，确保粒子分布在参数空间内； 定义适应度函数为与目标频率范围的偏差平方和的倒数，即越接近目标频率范围，适应度越高； 使用标准PSO更新规则，考虑粒子的当前位置、个人最优位置和全局最优位置； 更新粒子的速度和位置时，确保参数值保持在合理的范围内； 在每次迭代中，评估每个粒子的适应度值； 更新粒子的位置和速度； 重复迭代，直到达到预设的最大迭代次数或适应度值收敛； 根据优化得出的最佳参数值，调整振动膜的结构。

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