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龙图腾网获悉昆山科比精工设备有限公司申请的专利一种硅片镀铜前处理用转运装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120376473B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510867949.X，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权一种硅片镀铜前处理用转运装置是由王万生设计研发完成，并于2025-06-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种硅片镀铜前处理用转运装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种硅片镀铜前处理用转运装置，用于解决现有技术在硅片镀铜前处理环节的转运过程中，面临氧化控制、洁净度维持和表面完整性的三大技术挑战，严重影响硅片成膜的表面质量，难以满足集成电路的先进制程需求的问题。为本发明提供一种硅片镀铜前处理用转运装置，包括：机架、预清洗腔、真空过渡腔、惰性气体缓冲腔、密封镀铜线和硅片循环传送机构。通过预清洗腔到惰性气体缓冲腔，再到真空过渡腔的三级密封腔体结构，以物理隔离的方式，大大缩短了硅片在空气中的暴露时间，防止硅片在镀铜前发生氧化，保证硅片成膜的表面质量；通过使硅片载具与下料导向载架交叉不接触，向密封镀铜线内下料，非接触式传送硅片，防止晶格损伤。

本发明授权一种硅片镀铜前处理用转运装置在权利要求书中公布了：1.一种硅片镀铜前处理用转运装置，其特征在于，包括： 机架1，所述机架1的左部安装有预清洗腔2和真空过渡腔4，所述预清洗腔2和真空过渡腔4间设置有惰性气体缓冲腔3，所述机架1的上部安装有密封镀铜线5，且预清洗腔2、惰性气体缓冲腔3、真空过渡腔4和密封镀铜线5固定连通，所述预清洗腔2、惰性气体缓冲腔3和真空过渡腔4间安装有硅片循环传送机构6； 其中，所述预清洗腔2用于使化学药液去除硅片表面的颗粒杂质； 其中，所述惰性气体缓冲腔3用于在硅片自预清洗腔2出来后，控制硅片所处空间的氧气浓度，减少单硅片的暴露时间和暴露程度； 其中，所述真空过渡腔4用于为硅片传送提供真空空间； 其中，所述密封镀铜线5用于对硅片进行镀铜处理； 其中，所述硅片循环传送机构6用于装载硅片，并带动硅片在预清洗腔2、惰性气体缓冲腔3和真空过渡腔4间流转，后将硅片传送到密封镀铜线5内； 所述预清洗腔2包括前清洗腔201、后清洗传送腔202和第一传送导轨槽203，所述机架1的左端上壁安装有前清洗腔201和后清洗传送腔202，且前清洗腔201和后清洗传送腔202呈前后固定相接，所述前清洗腔201和后清洗传送腔202的相接壁上开设有第一传送导轨槽203； 所述惰性气体缓冲腔3包括前气体缓冲腔301、后缓冲传送腔302和第二传送导轨槽303，所述前清洗腔201和后清洗传送腔202的上部分别固定安装有前气体缓冲腔301和后缓冲传送腔302，且前气体缓冲腔301和后缓冲传送腔302呈前后固定相接，所述前气体缓冲腔301和后缓冲传送腔302的相接壁上开设有第二传送导轨槽303； 所述真空过渡腔4包括前过渡腔401、后过渡传送腔402和第三传送导轨槽403，所述前气体缓冲腔301和后缓冲传送腔302的右壁固定连通有前过渡腔401和后过渡传送腔402，且前过渡腔401和后过渡传送腔402的右部固定设置在机架1上，所述前过渡腔401和后过渡传送腔402的相接壁上开设有第三传送导轨槽403； 所述硅片循环传送机构6包括定位基板601、上料载台602、辅助传送带603、主动链轮604、从动链条605、定向滑块606、硅片载具607、卡销608和下料导向载架609，所述前清洗腔201的右壁下部与前过渡腔401的左壁下部间固定有定位基板601，所述定位基板601的上部固定有上料载台602，所述上料载台602内传动安装有辅助传送带603，所述后清洗传送腔202的左下角、后缓冲传送腔302的左上角、后过渡传送腔402的右上角和下部分别转动安装有一个主动链轮604，四个所述主动链轮604间链传动套接有从动链条605，所述从动链条605上通过十五根卡销608等距安装有十五个定向滑块606，十五个所述定向滑块606均滑动安装在所述第一传送导轨槽203、第二传送导轨槽303和第三传送导轨槽403内，十五个所述定向滑块606的前壁安装有硅片载具607，且硅片载具607内自辅助传送带603上部传过时被机械手装载有硅片，所述前过渡腔401的前壁内侧与密封镀铜线5的上料端前壁内侧间固定有下料导向载架609，且十五个硅片载具607的运动路线与下料导向载架609的左端相交，下料导向载架609间歇与硅片载具607交叉，但不接触。

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