万华化学集团电子材料有限公司王庆伟获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉万华化学集团电子材料有限公司申请的专利一种抛光组合物及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120383884B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510874713.9，技术领域涉及：C09G1/02；该发明授权一种抛光组合物及其制备方法和应用是由王庆伟;崔兆强;徐贺;常雪设计研发完成，并于2025-06-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种抛光组合物及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明涉及化学机械抛光技术领域，具体涉及一种抛光组合物及其制备方法和应用，包括如下步骤：将二氧化硅水溶胶、氨基酸或其盐与含有第一基团的硅烷偶联剂混合，得到分散液；所述第一基团选自含硫基团、环氧基、异氰酸基、酰氧基中的一种或者多种；将分散液与氧化剂混合，在温度为40℃‑70℃的条件下进行加热处理，得到改性二氧化硅水溶胶；将改性二氧化硅水溶胶、阴离子水溶性聚合物、有机碱和水混合，制得抛光组合物。通过使用上述特定方法得到的改性二氧化硅水溶胶与阴离子水溶性聚合物、有机碱和水混合后制得的抛光组合物，可以极大程度降低抛光后硅片表面的DCN缺陷。
本发明授权一种抛光组合物及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种硅片抛光组合物的制备方法，其特征在于，包括如下步骤： S1步骤：将二氧化硅水溶胶、氨基酸或其盐与含有第一基团的硅烷偶联剂混合，得到分散液；所述第一基团为巯基基团； S2步骤：将分散液与氧化剂混合，在温度为40℃-70℃的条件下进行加热处理，得到改性二氧化硅水溶胶； S3步骤：将改性二氧化硅水溶胶、阴离子水溶性聚合物、有机碱和水混合，制得硅片抛光组合物。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人万华化学集团电子材料有限公司，其通讯地址为：264000 山东省烟台市开发区北京中路50号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由AI智能生成
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号