合肥中聚和成光电材料股份有限公司赵建国获国家专利权
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龙图腾网获悉合肥中聚和成光电材料股份有限公司申请的专利一种ITO-Ag-ITO蚀刻液及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120442254B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510934486.4，技术领域涉及：C09K13/06；该发明授权一种ITO-Ag-ITO蚀刻液及其制备方法和应用是由赵建国;吴新清;王维康;何烨谦;黄德新;龚升设计研发完成，并于2025-07-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种ITO-Ag-ITO蚀刻液及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明属于蚀刻、表面增亮或酸洗组合物技术领域，具体涉及一种ITO‑Ag‑ITO蚀刻液及其制备方法和应用。包括如下质量百分数的组分：酒石酸15‑30%、磺基羧酸8‑20%、硫酸氢盐5‑15%、硝酸3‑10%、糖醇类化合物2‑6%、聚醚胺0.1‑5%、缓蚀剂0.01‑1%，余量为水。上述各组分之间相互作用，调节蚀刻选择性，均匀蚀刻，减少Ag膜层部分脱落、黑点、暗点或者短路等不良现象；降低蚀刻液对Al的活性，不会造成Al侧蚀；且通过络合‑分散‑吸附多重机制，抑制Ag+的还原反应，减少蚀刻后银颗粒残留及在Al等区域的析出，大大提升图案精度，显著提高了OLED制程中的产品良率。解决了现有技术中ITO与Ag蚀刻差异、银残留、银析出以及金属Al腐蚀问题。
本发明授权一种ITO-Ag-ITO蚀刻液及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种ITO-Ag-ITO蚀刻液，其特征在于，包括如下质量百分数的组分：酒石酸15-30%、磺基羧酸8-20%、硫酸氢盐5-15%、硝酸3-10%、糖醇类化合物2-6%、聚醚胺0.1-5%、缓蚀剂0.01-1%，余量为水；所述磺基羧酸由质量比为（3-7）:2的2-磺基乙酸与4,8-二磺基萘-2,6-二羧酸混合而得，或者由质量比为2:1的3-磺基丙酸与磺基邻苯二甲酸混合而得；所述聚醚胺的分子量为400-1000；所述糖醇类化合物为山梨糖醇、甘露醇、木糖醇、麦芽糖醇、苏糖醇、赤藓糖醇、核糖醇、岩藻糖醇、半乳糖醇、阿拉伯糖醇、艾杜糖醇中的任意一种或两种以上的组合。
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