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龙图腾网获悉松山湖材料实验室申请的专利双面PERC太阳能电池的背面结构刻蚀方法及其刻蚀液获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114267580B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010974812.1，技术领域涉及：H01L21/306；该发明授权双面PERC太阳能电池的背面结构刻蚀方法及其刻蚀液是由陈伟;刘尧平;肖川;张小虎;王燕;杜小龙设计研发完成，并于2020-09-16向国家知识产权局提交的专利申请。

本双面PERC太阳能电池的背面结构刻蚀方法及其刻蚀液在说明书摘要公布了：本发明公开了一种双面PERC太阳能电池的背面结构刻蚀方法及其刻蚀液，使晶硅片的背面浸入刻蚀液中，在温度8℃～40℃下刻蚀30s～180s，对晶硅片背面的金字塔形貌结构的塔尖进行刻蚀削平形成四棱台形貌结构。整个刻蚀方法工艺简单，与目前的刻蚀工艺兼容，能对晶硅片背面的金字塔形貌结构的塔尖进行刻蚀削平形成四棱台形貌结构，该四棱台形貌结构的顶面为平面，易于后续钝化膜的沉积，反射率可控，同时兼顾电池的光学和电学性能，得到的双面太阳能电池背面效率高，双面率高；同时所采用的刻蚀液不含氮，有效避免了现有技术酸刻蚀中的硝酸排放，废液处理成本低，对环保压力小，而且原料化学药液成本低，易于获得。

本发明授权双面PERC太阳能电池的背面结构刻蚀方法及其刻蚀液在权利要求书中公布了：1.一种双面PERC太阳能电池的背面结构刻蚀方法，其特征在于，其包括以下步骤： 1预备扩散后的晶硅片,该晶硅片的背面上具有金字塔形貌结构，该金字塔形貌结构的底边长1～5微米，高度为0.7～3.5微米； 2配置刻蚀液：将氟离子源、含氯的离子源、氧化剂和去离子水相混合获得刻蚀液，其中所述氟离子源的浓度为0.1molL～8molL，所述含氯的离子源的浓度为0.01molL～13molL，所述氧化剂的浓度为0.01molL～3molL； 步骤2还添加有添加剂，该添加剂与刻蚀液的质量比为0.2～5:100，所述添加剂由以下质量份数比组分组成：0.1～5质量份十二烷基硫酸钠、1～3质量份柠檬酸钠、0.5～3质量份瓜尔豆胶、100质量份水； 3背面刻蚀：将晶硅片平放于输送设备上，由输送设备向前输送，使晶硅片的背面浸入刻蚀液中，在温度8℃～40℃下刻蚀30s～180s，对晶硅片背面的金字塔形貌结构的塔尖进行刻蚀削平形成四棱台形貌结构，该四棱台形貌结构的底面边长1～5微米，顶面边长为0.3～3微米，高度为0.3～3微米；四棱台形貌结构的顶面为平面，易于钝化。

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