东京毅力科创株式会社樱井宏纪获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基片处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113161255B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011576637.7，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权基片处理装置是由樱井宏纪;后藤大辅;中泽贵士;高松祐助;桥本佑介设计研发完成，并于2020-12-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本基片处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种基片处理装置，其能够抑制在利用混合液的蚀刻处理结束时在混合部发生突沸反应。本发明的一个方式的基片处理装置包括升温部、混合部和释放部。升温部使硫酸升温。混合部将升温后的硫酸与含有水分的液体混合来生成混合液。释放部在基片处理部内对基片释放混合液。此外，混合部包括：合流部，其用于供升温后的硫酸流动的硫酸供给管路与供液体流动的液体供给管路合流；和反应抑制机构，其抑制合流部中的升温后的硫酸与液体的反应。
本发明授权基片处理装置在权利要求书中公布了：1.一种基片处理装置，其特征在于，包括： 使硫酸升温的升温部； 将升温后的硫酸与含有水分的液体混合来生成混合液的混合部；和 在基片处理部内对基片释放所述混合液的释放部， 所述混合部包括： 合流部，其用于供升温后的硫酸流动的硫酸供给管路与供所述液体流动的液体供给管路合流；和 反应抑制机构，其抑制所述合流部中的升温后的硫酸与所述液体的反应， 所述反应抑制机构由设置在所述液体供给管路的U字形的配管缓冲部构成，所述配管缓冲部的最上部设置在比所述合流部高的位置， 所述液体含有臭氧水或氢水。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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