阿科玛法国公司N·普费芬伯格获国家专利权
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龙图腾网获悉阿科玛法国公司申请的专利形成能够实现低介电损耗的可3D打印材料的组合物和方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116034121B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180057342.5，技术领域涉及：C08F226/06；该发明授权形成能够实现低介电损耗的可3D打印材料的组合物和方法是由N·普费芬伯格;B·麦格雷尔;J·斯科尔特设计研发完成，并于2021-06-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本形成能够实现低介电损耗的可3D打印材料的组合物和方法在说明书摘要公布了：公开的是光固化性组合物和工艺来制造3D高频介电材料用作电路中的绝缘体，例如，高性能RF组件，如用于电磁传输的天线，滤波器，传输线或高频互连。高频电路结构在操作频率1‑60GHz下具有非常低的介电损失。
本发明授权形成能够实现低介电损耗的可3D打印材料的组合物和方法在权利要求书中公布了：1.适合于3D打印的光固化性组合物，所述光固化性组合物包括： a.至少一种甲基丙烯酸酯化的聚二烯衍生物； b.用于保持交联性能的至少一种烯属不饱和异氰脲酸酯或氰脲酸酯； c.任选地，至少一种芳族乙烯基单体； d.任选地，具有以下结构的至少一种官能化聚苯醚： 其中1≤x≤100；1≤y≤100；2≤x+y≤100； M选自： 其中Q为选自以下中的任一种：─O─，─CO─，SO，─SO2─，和─CH2─，─CCH32─； R2，R4，R6，R8，R11，R13，R15和R17均为独立地选自以下中的任一种：氢原子，取代或未取代的C1-C8直链烷基基团，取代或未取代的C1-C8支链烷基基团，和取代或未取代的苯基； R1，R3，R5，R7，R10，R12，R14和R16均独立地选自：氢原子，取代或未取代的C1-C8直链烷基基团，取代或未取代的C1-C8支链烷基基团和取代或未取代的苯基；和 R9选自： 其中A选自：亚芳基、羰基或具有1-10个碳原子的亚烷基；Z是0-10的整数；且R21，R22和R23均独立地选自：氢原子或具有1-10个碳原子的烷基； e.至少一种光引发剂； f.至少一种稀释剂，其选自：芳基双官能甲基丙烯酸酯单体；甲基丙烯酸烷基酯单体；和多官能甲基丙烯酸酯单体；和 任选地，至少一种光阻剂。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人阿科玛法国公司，其通讯地址为：法国科隆布；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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