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龙图腾网获悉中国人民解放军火箭军工程大学申请的专利一种基于光学微面元理论几何衰减因子修正方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114676386B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210186844.4，技术领域涉及：G06F17/18；该发明授权一种基于光学微面元理论几何衰减因子修正方法是由杨志勇;蔡伟;张志伟;张志利;罗李娜;张明娣设计研发完成，并于2022-02-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于光学微面元理论几何衰减因子修正方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于光学微面元理论几何衰减因子修正方法，包括利用微面元理论，设定物体表面由多个微面元构成，每个微面元由靠近入射光的第一照射面和远离入射光的第二照射面构成；基于第一、二照射面与入射光和反射光的几何关系，采用法向量夹角概率模型，获得建修正后的几何衰减因子以获得入射光的遮挡概率，将修正后的几何衰减因子代入二向反射分布函数得到反射光的辐射能量，以探测物体的形貌。该方法能够获得准确的、合理的几何衰减因子，从而能够准确分析目标偏振特性，有利于增强偏振探测的效果。

本发明授权一种基于光学微面元理论几何衰减因子修正方法在权利要求书中公布了：1.一种基于光学微面元理论几何衰减因子修正方法，其特征在于，包括： 利用微面元理论，设定物体表面由多个微面元构成，每个微面元由靠近入射光的第一照射面和远离入射光的第二照射面构成； 基于第一照射面与入射光的几何关系，采用法向量夹角概率模型，分别得到入射光完全通过第一照射面的概率，入射光未通过第一照射面的概率，入射光部分通过第一照射面的概率； 基于入射光完全通过第一照射面后完全通过、完全遮蔽或部分通过第二照射面得到第一乘积概率； 入射光完全通过第一照射面后形成第一反射光，基于第一反射光与第二照射面的几何关系，采用法向量夹角概率模型，分别得到第一反射光完全通过第二照射面的概率，第一反射光经第二照射面后向反射的概率；将第一反射光完全通过第二照射面和经第二照射面后向反射的概率和，与入射光完全通过第一照射面的概率进行乘积得到第二乘积概率； 基于入射光部分通过第一照射面后形成第二反射光，基于第二反射光与第二照射面的几何关系，采用法向量夹角概率模型，分别构建第二反射光经第二照射面前向反射的概率，第二反射光经第二照射面后向反射的概率；将第二反射光经第二照射面前向、后向反射的概率和，与入射光部分通过第一照射面的概率进行乘积得到第三乘积概率； 基于入射光未通过第一照射面的概率，以及第一、二、三乘积概率构建修正后的几何衰减因子，以获得入射光的遮挡概率，将修正后的几何衰减因子代入二向反射分布函数计算物体反射光的辐射能量，以探测物体的形貌。

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