广东工业大学唐振华获国家专利权
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龙图腾网获悉广东工业大学申请的专利一种MXene/NiO异质结的突触器件、制备方法及其应用获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115312660B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211080520.9,技术领域涉及:H10N70/20;该发明授权一种MXene/NiO异质结的突触器件、制备方法及其应用是由唐振华;方俊霖;张莉;范召缘;梁展恒;刘廷诉;唐新桂;刘秋香设计研发完成,并于2022-09-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种MXene/NiO异质结的突触器件、制备方法及其应用在说明书摘要公布了:本发明提供了一种MXeneNiO异质结的突触器件、制备方法及其应用,该MXeneNiO异质结的突触器件,包括:基片,所述基片中设置有底部电极,其中,所述基片的上顶面暴露有所述底部电极;覆盖所述基片部分区域的MXeneNiO异质结层,所述MXeneNiO异质结层包括MXene层和NiO层,所述部分区域为基片对应的区域中除底部电极的其他区域;位于所述MXeneNiO异质结层顶面的顶部电极。本发明中的突触器件对电脉冲具有极快且敏感的响应,具有超低能耗,可用于构建人工神经网络系统。
本发明授权一种MXene/NiO异质结的突触器件、制备方法及其应用在权利要求书中公布了:1.一种MXeneNiO异质结的突触器件,其特征在于,包括: 基片,所述基片中设置有底部电极,其中,所述基片的上顶面暴露有所述底部电极; 覆盖所述基片部分区域的MXeneNiO异质结层,所述MXeneNiO异质结层包括MXene层和NiO层,所述部分区域为基片对应的区域中除底部电极的其他区域; 位于所述MXeneNiO异质结层顶面的顶部电极; 其中,所述顶部电极的材料为金、银、铜、铝、铟锡氧化物中的一种; 所述基片为FTO导电玻璃或ITO导电玻璃; MXeneNiO异质结的突触器件的制备方法,其特征在于: 获取基片,所述基片的上顶面暴露有底部电极,所述底部电极设置于所述基片的内部; 在所述基片的上顶面旋涂NiO前驱体溶液,确定NiO凝胶湿膜,其中,NiO前驱体溶液由乙酸镍四水合物溶于有机溶剂中制备而成,所述有机溶剂为冰乙酸、乙二醇甲醚、乙酰丙酮或乙二醇中的至少一种; 对所述NiO凝胶湿膜依次进行预设次数的薄膜处理,得到初始NiO薄膜,所述薄膜处理的处理流程包括烘干、热解、预退火、重复旋涂; 基于所述初始NiO薄膜,在退火温度范围内进行退火处理,生成NiO薄膜; 在所述NiO薄膜的上顶面旋涂MXene前驱体溶液,处理后生成MXene薄膜; 去除部分区域的MXene薄膜和NiO薄膜,以暴露出所述基片上的底部电极,形成MXeneNiO异质结层; 在所述MXeneNiO异质结层上电镀形成顶部电极。
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