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龙图腾网获悉上海频准激光科技有限公司申请的专利交叉对准光纤光栅对的波长自匹配刻写系统及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115857087B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211410127.1，技术领域涉及：G02B6/02；该发明授权交叉对准光纤光栅对的波长自匹配刻写系统及方法是由潘伟巍;董金岩;张磊设计研发完成，并于2022-11-11向国家知识产权局提交的专利申请。

本交叉对准光纤光栅对的波长自匹配刻写系统及方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种交叉对准光纤光栅对的波长自匹配刻写系统及方法，用于在待刻写保偏光纤上同时刻写中心波长匹配的高反光栅和低反光栅，该刻写系统包括沿出光方向依次设置的光源和相位掩模板，通过在相位掩模板上设置不同周期的慢轴匹配区域和快轴匹配区域，配合由交叉对准的第一光纤段和第二光纤段组成的待刻写保偏光纤，第一光纤段与慢轴匹配区域对应设置，第二光纤段与快轴匹配区域对应设置，实现在待刻写保偏光纤上同时刻写中心波长匹配的高反光栅和低反光栅，从而摆脱不确定性对光栅中心波长的影响，提高了良品率，降低了光纤光栅对的生产难度。

本发明授权交叉对准光纤光栅对的波长自匹配刻写系统及方法在权利要求书中公布了：1.一种交叉对准光纤光栅对的波长自匹配刻写系统，用于在待刻写保偏光纤上同时刻写中心波长匹配的高反光栅和低反光栅，其特征在于，所述刻写系统包括沿出光方向依次设置的光源和相位掩模板； 所述光源用于沿所述出光方向提供工作用激光； 所述相位掩模板用于衍射所述激光，形成±1级衍射输出，并抑制0级衍射，所述相位掩模板包括沿第一方向依次设置的慢轴匹配区域和快轴匹配区域，所述慢轴匹配区域具有第一周期，所述快轴匹配区域具有第二周期，所述第一周期不同于所述第二周期，所述第一方向垂直于所述出光方向； 所述待刻写保偏光纤沿第一方向延伸，所述待刻写保偏光纤包括第一光纤段和第二光纤段，所述第一光纤段和所述第二光纤段快慢轴交叉对准，所述第一光纤段与所述慢轴匹配区域对应设置，所述第二光纤段与所述快轴匹配区域对应设置； 其中，刻写的高反光栅和低反光栅的中心波长为目标波长，所述第一光纤段对应目标波长的折射率为第一折射率，所述第二光纤段对应目标波长的折射率为第二折射率，第一折射率与第一周期的乘积、第二折射率与第二周期的乘积均等于目标波长。

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