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龙图腾网获悉深圳市纵维立方科技有限公司申请的专利一种曝光能量调节方法、增材制造设备及可读存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118269353B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211726491.9，技术领域涉及：B29C64/393；该发明授权一种曝光能量调节方法、增材制造设备及可读存储介质是由请求不公布姓名;陈建刚设计研发完成，并于2022-12-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种曝光能量调节方法、增材制造设备及可读存储介质在说明书摘要公布了：本申请公开了一种曝光能量调节方法、增材制造设备及可读存储介质，方法包括：控制光源的各光源区块以与各光源区块分别对应的预设发光功率发光；获取与各光源区块分别对应的屏上区块的能量，屏上区块为在曝光屏上与光源区块位置对应设置的区块；根据各屏上区块的能量及目标能量，分别对各光源区块的发光功率进行调节，直至曝光屏上的各屏上区块的能量满足设定条件。本申请公开的上述方案，有利于曝光屏上各点位的曝光能量均匀呈现，能够有效降低曝光屏上各点位的能量差值、提高光均匀度，从而提高打印质量。

本发明授权一种曝光能量调节方法、增材制造设备及可读存储介质在权利要求书中公布了：1.一种曝光能量调节方法，其特征在于，应用于增材制造设备，所述增材制造设备包括曝光屏以及所述曝光屏对应的光源，所述光源发出光线穿过所述曝光屏以固化打印材料，所述曝光能量调节方法包括： 控制所述光源的各光源区块以与各所述光源区块分别对应的预设发光功率发光； 获取与各所述光源区块分别对应的屏上区块的能量，所述屏上区块为在所述曝光屏的屏上与所述光源区块位置对应设置的区块； 根据各所述屏上区块的能量及各所述屏上区块的目标能量，对各所述光源区块的发光功率进行调节，直至所述曝光屏上的各所述屏上区块的能量满足设定条件； 在所述曝光屏上的各所述屏上区块的能量中，确定最低能量值以及所述最低能量值所在的第一屏上区块； 根据所述最低能量值及预设最大波动值，对所述曝光屏上所述第一屏上区块之外的其余各所述屏上区块的显示灰度进行调节，直至所述曝光屏上所述第一屏上区块之外的其余各所述屏上区块的能量与所述最低能量值的差值的绝对值小于或等于所述预设最大波动值。

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