福建省佑达环保材料有限公司刘小勇获国家专利权
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龙图腾网获悉福建省佑达环保材料有限公司申请的专利一种用于集成电路的厚膜光刻胶显影液组合物获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115981118B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310043699.9，技术领域涉及：G03F7/32；该发明授权一种用于集成电路的厚膜光刻胶显影液组合物是由刘小勇;黄晓莉;房龙翔;叶鑫煌;肖小江;刘文生设计研发完成，并于2023-01-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于集成电路的厚膜光刻胶显影液组合物在说明书摘要公布了：本发明公开了一种用于集成电路的厚膜光刻胶显影液组合物，属于湿电子化学品领域。按质量百分数之和为100%计，所述组合物中各组分及其所占质量百分数为：无机碱0.1‑5%、显影增强剂0.1‑5%、稳定剂0.1‑5%、表面活性剂0.1‑2%，余量为水；所用表面活性剂的化学结构式为（n=1~15，p、e=1~6），其具有优异的显影性能，能保证显影速率，并确保显影过程中显影性能的均匀性及显影图案的精度，同时，其可提高显影液对光刻胶的分散性，避免出现光刻胶残留。所得显影液组合物泡沫小，易于漂洗，润湿性好，不在芯片上产生残留，对环境友好，适用于集成电路芯片代加工和封装过程中使用的厚膜光刻胶的显影。
本发明授权一种用于集成电路的厚膜光刻胶显影液组合物在权利要求书中公布了：1.一种用于集成电路的厚膜光刻胶显影液组合物，其特征在于，按质量百分数之和为100%计，所述组合物中各组分及其所占质量百分数为：无机碱0.1-5%、显影增强剂0.1-5%、稳定剂0.1-5%、表面活性剂0.1-2%，余量为水； 所述表面活性剂的化学结构式为：， 其中n为1~15的整数，p、e为1-6的整数。
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