深圳市纵维立方科技有限公司请求不公布姓名获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市纵维立方科技有限公司申请的专利一种打印模型的加工方法、模型加工设备和可读存储介质获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116353228B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202310215978.9,技术领域涉及:B41M5/00;该发明授权一种打印模型的加工方法、模型加工设备和可读存储介质是由请求不公布姓名;邓新桥;毛宇航;刘付杰设计研发完成,并于2023-02-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种打印模型的加工方法、模型加工设备和可读存储介质在说明书摘要公布了:本申请提供了一种打印模型的加工方法、模型加工设备和可读存储介质,涉及打印领域。该方法应用于模型加工设备,模型加工设备包括喷涂模组和光源模组,该方法包括:获取模型喷涂信息,模型喷涂信息包括打印模型的目标加工区域以及目标加工区域对应的目标打印材料;控制喷涂模组向打印模型上的目标喷涂区域喷涂目标打印材料;目标喷涂区域为至少包括目标加工区域的区域;控制光源模组对目标加工区域投射光线,以固化位于目标加工区域的目标打印材料。本申请,先向打印模型的目标喷涂区域粗喷涂打印材料,再对目标喷涂区域上具体的目标加工区域进行精细的颜色固化,提高了上色速度且达到更好的上色精度,保证打印模型上颜色边缘界限分明。
本发明授权一种打印模型的加工方法、模型加工设备和可读存储介质在权利要求书中公布了:1.一种打印模型的加工方法,其特征在于,应用于模型加工设备,所述模型加工设备包括喷涂模组和光源模组,所述方法包括: 获取模型喷涂信息,所述模型喷涂信息包括打印模型的目标加工区域以及所述目标加工区域对应的目标打印材料; 控制所述喷涂模组向所述打印模型上的目标喷涂区域喷涂所述目标打印材料;所述目标喷涂区域为至少包括所述目标加工区域的区域;所述目标喷涂区域是大于所述目标加工区域的区域,所述目标加工区域位于所述目标喷涂区域内,所述目标喷涂区域和所述目标加工区域均为所述打印模型上的区域; 控制所述光源模组对所述目标加工区域投射光线,以固化位于所述目标加工区域的所述目标打印材料。
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