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龙图腾网获悉中国航发北京航空材料研究院申请的专利一种用于射线检测的缺陷深度定位方法及检测装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116577356B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310274376.0，技术领域涉及：G01N23/04；该发明授权一种用于射线检测的缺陷深度定位方法及检测装置是由甘勇;马海全;王倩妮;范洪涛设计研发完成，并于2023-03-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种用于射线检测的缺陷深度定位方法及检测装置在说明书摘要公布了：本发明公开了一种用于射线检测缺陷深度定位方法与检测装置，包括：步骤S1：测量缺陷的实际尺寸；步骤S2：在缺陷所在被检部位源侧和探测器侧表面放置标尺，并测量标尺间的距离，采集图像；步骤S3：计算标尺的放大比；步骤S4：计算射线源与探测器之间的距离，并进一步计算缺陷至射线源测标尺或探测器侧标尺的距离。本发明利用两个标尺的放大比和间距，得到了难以准确测量的射线源至探测器实际成像区域的距离，结合缺陷的放大比得到了缺陷至源侧表面标尺或探测器侧表面标尺的距离，实现了深度方向定位。本发明的使用条件低，可操作性强，适用性好，能为材料成型过程中缺陷的打磨、修整提供帮助。

本发明授权一种用于射线检测的缺陷深度定位方法及检测装置在权利要求书中公布了：1.一种用于射线检测缺陷深度定位方法；其特征在于，所述方法包括以下步骤： 步骤S1：测量工件中缺陷的尺寸； 步骤S2：在缺陷的射线源侧表面和探测器侧表面分别放置第一标尺和第二标尺，测量第一标尺和第二标尺之间的距离，采集图像，图像上缺陷、第一标尺和第二标尺的像应尽量靠近但不重合； 步骤S3：测量第一标尺、第二标尺和缺陷的影像尺寸，并分别计算影像尺寸与实际尺寸间的放大比；第一标尺和第二标尺的放大比计算公式为： 其中，为第一标尺的放大比，为射线发射位置至探测器实际成像平面的距离，为射线发射位置至第一标尺的距离，为第一标尺的像的尺寸，为第一标尺的实际尺寸，为第一标尺和第二标尺的距离，为第二标尺的像的尺寸，为第二标尺的实际尺寸； 步骤S4：利用第一标尺和第二标尺的放大比计算得到射线源与探测器成像平面之间的距离，利用所述距离和缺陷的放大比计算缺陷至第一标尺和第二标尺的距离；射线发射位置与探测器成像平面之间的距离计算公式为： ； 缺陷至第一标尺和第二标尺的距离计算公式分别为： 其中，为缺陷至第一标尺的距离，为步骤S2所得图像中缺陷像的尺寸，为步骤S1中测得的缺陷尺寸。

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