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龙图腾网获悉广东中图半导体科技股份有限公司申请的专利一种复合衬底清洗方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117577517B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311532573.4，技术领域涉及：H01L21/02；该发明授权一种复合衬底清洗方法是由卢建航;王子荣;王农华;韦敏华;陈章华设计研发完成，并于2023-11-16向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种复合衬底清洗方法在说明书摘要公布了：本发明实施例公开了一种复合衬底清洗方法，首先提供复合衬底；其中，复合衬底包括基底和异质微结构，然后采用满足预设电离率条件的气体，分别调节基底的表面的界面动电势和异质微结构的表面的界面动电势，最后采用清洗溶液，对复合衬底进行清洗；其中，复合衬底的表面上包括副产物，至少部分副产物在清洗溶液中形成带电胶体微粒，且在清洗溶液中，基底的表面的界面动电势、异质微结构的表面的界面动电势与带电胶体微粒的界面动电势相同。利用上述方法，在清洗前合理调节基底的表面的界面动电势和异质微结构的表面的界面动电势，则带电胶体微粒不易吸附，只采用一种清洗溶液即可实现复合衬底的清洗洁净效果，有效提高了复合衬底的清洗效率。

本发明授权一种复合衬底清洗方法在权利要求书中公布了：1.一种复合衬底清洗方法，其特征在于，包括： 提供复合衬底；其中，所述复合衬底包括基底和异质微结构； 采用满足预设电离率条件的气体，分别调节所述基底的表面的界面动电势和所述异质微结构的表面的界面动电势； 采用清洗溶液，对所述复合衬底进行清洗；其中，所述复合衬底的表面上包括副产物，至少部分所述副产物在所述清洗溶液中形成带电胶体微粒，且在所述清洗溶液中，所述基底的表面的界面动电势、所述异质微结构的表面的界面动电势与所述带电胶体微粒的界面动电势相同； 所述基底的表面具有第一悬挂键，所述异质微结构的表面具有第二悬挂键； 采用满足预设电离率条件的气体，分别调节所述基底的表面的界面动电势和所述异质微结构的表面的界面动电势，包括： 在第一反应阶段，在第一预设反应参数条件下，采用满足预设电离率条件的所述气体，分别与所述第一悬挂键和所述第二悬挂键进行化学反应，并对应生成第一共价键和第二共价键；其中，在所述清洗溶液中，所述第一共价键的界面动电势、所述第二共价键的界面动电势与所述带电胶体微粒的界面动电势相同。

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