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龙图腾网获悉郑州磨料磨具磨削研究所有限公司;河南省功能金刚石研究院有限公司申请的专利一种实时检测CVD金刚石沉积的高精度光谱检测方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117723529B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311751599.8，技术领域涉及：G01N21/73；该发明授权一种实时检测CVD金刚石沉积的高精度光谱检测方法是由吴晓磊;刘晖;徐帅;赵延军;周文涛;曹博伦;闫建明;康世豪;闫宁设计研发完成，并于2023-12-19向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种实时检测CVD金刚石沉积的高精度光谱检测方法在说明书摘要公布了：本发明提出了一种实时检测CVD金刚石沉积的高精度光谱检测方法，包括以下步骤：S1：将光谱诊断装置的光纤探头固定在CVD设备的石英观察窗口上，调节光纤探头角度实现光纤探头在沉积台径向不同位置的高精度定位；S2：采集等离子体径向不同位置点处的背景信号和CVD设备中金刚石沉积过程中等离子体径向不同位置点处的光谱信号；S3：识别光谱信号中的特征峰，利用光谱特征峰强度对CVD金刚石沉积过程稳定性进行检测与判定；S4：利用不同离子基团的特征值，对该工艺下CVD金刚石的有效沉积范围和沉积品质进行检测评价。本发明所提出的检测方法方便快捷，能够在沉积反应过程中实现对CVD金刚石沉积稳定性和有效沉积面积的高精度检测方法。

本发明授权一种实时检测CVD金刚石沉积的高精度光谱检测方法在权利要求书中公布了：1.一种实时检测CVD金刚石沉积的高精度光谱检测方法，其特征在于，包括以下步骤： S1：将光谱诊断装置的光纤探头固定在CVD设备的石英观察窗口上，调节光纤探头角度实现光纤探头在沉积台径向不同位置的高精度定位； S2：采集等离子体径向不同位置点处的背景信号和CVD设备中金刚石沉积过程中等离子体径向不同位置点处的光谱信号，得到背景光谱强度Sd与实测光谱强度Sm； S3：利用背景光谱与实测光谱识别光谱信号中的特征峰，利用光谱特征峰强度对CVD金刚石沉积过程稳定性进行检测与判定； S4：利用不同离子基团的特征值，对CVD金刚石的有效沉积范围和沉积品质进行检测评价； 步骤S4对CVD金刚石的有效沉积范围和沉积品质进行检测评价的具体步骤为： S41：首先对光谱仪采集的实测光谱强度Sm和背景光谱强度Sd进行归一化处理， 其中，t为测试时的积分时间，ε为校准系数； S42：选择Hα活性基团和C2活性基团的发射光谱所对应特征峰的峰值IH和IC作为特征值，以CVD设备中沉积台中心点为基准，沿直径方向每间隔10mm取点进行测试，分别记为0，1，2，…i，i+1； S43：以Hα活性基团的特征峰强度IH0为基准，当第i个待测点处Hα活性基团的特征峰强度IHi与IH0的比值IHiIH0≥0.8时，且第i+1个待测点处Hα活性基团的特征峰强度IHi+1与IH0的比值IHi+1IH0＜0.8时，CVD金刚石的有效沉积面积Sq＝10×i2×3.14； S44：以等离子体中心位置C2活性基团的特征峰强度IC0为基准，当第i个待测点处IC0的特征峰强度ICi＞IC0时，与等离子体中心位置的沉积速率V0相比，含碳活性粒子在待测点具有更高的浓度与化学活性来促进金刚石生长，第i个待测点处的沉积速率Vi＞V0。

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