南京工业大学王学瑞获国家专利权
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龙图腾网获悉南京工业大学申请的专利一种静态合成STT分子筛膜的方法、STT分子筛膜及其在分离H2中的应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118164498B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410272580.3，技术领域涉及：C01B39/48；该发明授权一种静态合成STT分子筛膜的方法、STT分子筛膜及其在分离H2中的应用是由王学瑞;代勇;周韬;朱明宇;顾学红设计研发完成，并于2024-03-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种静态合成STT分子筛膜的方法、STT分子筛膜及其在分离H2中的应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种静态合成STT分子筛膜的方法、STT分子筛膜及其在分离H2中的应用，所述静态合成STT分子筛膜的方法包括如下步骤：在支撑体的表面涂覆SiO2颗粒后煅烧；在煅烧后的支撑体表面涂覆小粒径STT分子筛晶种；将涂晶后的支撑体置于合成液中，在静态条件下进行水热合成；反应后的合成液为半固态，且合成液中的原料摩尔比为：1SiO2:0.1‑0.3TMAdaOH:40‑130H2O；清洗烘干后，在臭氧气氛下焙烧去除模板剂。该方法通过调节含水量，液态合成液原位转变为半固态凝胶，避免营养物质沉降，晶种逐渐长大并融合在一起形成STT分子筛膜。由于半固态合成液前驱体的成核过程受到抑制，无定形前驱体可重新用于膜的合成。该STT分子筛膜对高压H2CH4混合物表现出优异的分离性能。
本发明授权一种静态合成STT分子筛膜的方法、STT分子筛膜及其在分离H2中的应用在权利要求书中公布了：1.一种静态合成制备STT分子筛膜的方法，其特征在于，包括如下步骤： S1、在支撑体的表面涂覆SiO2颗粒后煅烧； S2、在煅烧后的支撑体表面涂覆STT分子筛晶种； S3、将涂晶后的支撑体置于合成液中，在静态条件下进行水热合成；反应后的合成液为半固态，且合成液中的原料摩尔比为：1SiO2:0.1-0.3TMAdaOH:84-104H2O； S4、清洗烘干后，在臭氧气氛下焙烧去除模板剂。
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