细美事有限公司具滋明获国家专利权
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龙图腾网获悉细美事有限公司申请的专利支承单元和包括该支承单元的基板处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115295386B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210928718.1，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权支承单元和包括该支承单元的基板处理装置是由具滋明;具重谟;李俊虎;安宗焕;罗世源设计研发完成，并于2018-10-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本支承单元和包括该支承单元的基板处理装置在说明书摘要公布了：本发明涉及支承单元和包括该支承单元的基板处理装置。基板处理装置包括：腔室，在该腔室内部具有处理空间；支承单元，其配置为支承基板；气体供应单元，其配置为将气体供应到处理空间中；和等离子体源，其配置为生成等离子体，其中，支承单元包括：支承板，基板定位在该支承板上；环组件，其围绕支承板的周围并具有环形电极；和电压施加单元，其配置为通过向环形电极施加电压来控制等离子体到基板上的入射角，且其中，电压施加单元包括：导电材料的底板；直流电源，其配置为向底板施加直流电压；和多个连接体，其连接底板和环形电极，由导电材料形成。
本发明授权支承单元和包括该支承单元的基板处理装置在权利要求书中公布了：1.一种基板处理装置，所述基板处理装置包括： 腔室，在所述腔室的内部具有处理空间； 支承单元，所述支承单元被配置为在所述处理空间中支承基板； 气体供应单元，所述气体供应单元被配置为将气体供应到所述处理空间中；和 等离子体源，所述等离子体源被配置为从所述气体生成等离子体， 其中，所述支承单元还包括： 支承板，所述基板定位在所述支承板上； 环形电极，所述环形电极被配置为围绕所述支承板；和 电压施加单元，所述电压施加单元被配置为通过向所述环形电极施加电压来控制所述等离子体到所述基板上的入射角， 其中，所述电压施加单元包括： 导电材料的底板； 直流电源，所述直流电源被配置为向所述底板施加所述电压；和 多个连接体，所述多个连接体设置在所述支承板的外部并且连接所述底板和所述环形电极，且 其中，所述底板具有环形状并且与所述支承板的下侧间隔开； 其中，所述多个连接体由导电材料形成。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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