株式会社EUGENE科技梁承国获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社EUGENE科技申请的专利基板处理装置及基板处理装置的运用方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114156161B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111048300.3，技术领域涉及：H01L21/02；该发明授权基板处理装置及基板处理装置的运用方法是由梁承国;郑奉周;姜圭完设计研发完成，并于2021-09-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理装置及基板处理装置的运用方法在说明书摘要公布了：根据本发明的一实施例，一种运用基板处理装置的方法，该基板处理装置包括：腔体，通过对置于内部的基板的氧化膜除去工序，在内壁沉积了含氟硅盐；及天线，设置在上述腔体外侧；被施加RF功率，向上述腔体内部供应惰性气体，且对上述天线施加RF功率，由此将上述腔体内壁加热到75℃以上，热分解上述含氟硅盐。
本发明授权基板处理装置及基板处理装置的运用方法在权利要求书中公布了：1.一种基板处理装置的运用方法，其特征在于，包括： 向腔体内设置的基板支撑台上放置的基板表面供应反应性气体，以使该反应性气体与上述基板表面上形成的氧化膜反应生成含氟和硅的物质的步骤，其中，通过向上述腔体供应源气体且向安装在上述腔体内的天线施加RF功率，从而由上述源气体产生上述反应性气体； 将上述基板引出到上述腔体外部，移送到退火处理腔体的步骤；以及 向上述腔体内部供应惰性气体，且向上述天线施加RF功率，以将上述腔体内壁加热到75℃以上，热分解上述腔体内壁上形成的含氟和硅的物质的步骤， 向上述天线施加RF功率包括施加RF功率的施加时间和切断RF功率的中断时间，上述施加时间和上述中断时间周期性重复，且上述施加时间比上述中断时间长。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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