深圳市矩阵多元科技有限公司龚文志获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市矩阵多元科技有限公司申请的专利一种等离子清洗装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223337969U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422532257.3，技术领域涉及：B08B7/00；该实用新型一种等离子清洗装置是由龚文志;邵寿潜;李永杰;张亮;张晓军;黄承语设计研发完成，并于2024-10-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种等离子清洗装置在说明书摘要公布了：本申请提供了一种等离子清洗装置，属于半导体生产设备技术领域，包括腔体，所述腔体的内部设置腔室；盖板，所述盖板覆盖于所述腔室的上端；远程等离子体源，所述远程等离子体源连接于所述凸出部的中心位置；挡气部，所述挡气部设置于所述锥形腔室；第一均气板，所述第一均气板设置于所述挡气部的下方；第二均气板，所述第二均气板设置于所述第一均气板的下方；基片台。盖板和挡气部能够将远程等离子体源送入的等离子气体均散至腔室内，再通过第一均气板进一步均气，来确保基片区域的气体均匀性，同时真空机构一般连接于腔体底部，因此抽气的时候是通过第二均气板向下抽气，可以有效确保腔室内的气体均匀性，从而提高刻蚀均匀性和刻蚀速率。
本实用新型一种等离子清洗装置在权利要求书中公布了：1.一种等离子清洗装置，其特征在于，包括： 腔体，所述腔体的内部设置腔室； 盖板，所述盖板覆盖于所述腔室的上端，所述盖板设置有向上凸起的凸出部，所述凸出部的下方形成锥形腔室； 远程等离子体源，所述远程等离子体源连接于所述凸出部的中心位置，并与所述腔室连通； 挡气部，所述挡气部设置于所述锥形腔室，所述挡气部靠近所述远程等离子体源的一端设置锥形头部，所述锥形头部与所述盖板之间具有间距； 第一均气板，所述第一均气板设置于所述挡气部的下方，所述第一均气板上设置多个第一均气孔，沿中心向四周的方向，所述第一均气孔之间的间距减小； 第二均气板，所述第二均气板设置于所述第一均气板的下方，所述第二均气板上设置多个第二均气孔，并且，所述第二均气板的中心设置开口； 基片台，所述基片台可升降地设置于所述第二均气板的下方，所述基片台能够承托基片向上运动至所述开口位置。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人深圳市矩阵多元科技有限公司，其通讯地址为：518131 广东省深圳市龙华区民治街道上芬社区龙屋工业区6号厂房101一、二楼；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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