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龙图腾网获悉中机半导体材料(深圳)有限公司申请的专利一种用于蓝宝石LED芯片背减工艺的团聚研磨液加工方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119371936B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411554898.7，技术领域涉及：C09K3/14；该发明授权一种用于蓝宝石LED芯片背减工艺的团聚研磨液加工方法是由李浩杰;陈斌;陶阳;袁高龙;李黎明设计研发完成，并于2024-11-04向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种用于蓝宝石LED芯片背减工艺的团聚研磨液加工方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种用于蓝宝石LED芯片背减工艺的团聚研磨液加工方法，包括以下步骤：S1、配方准备；S2、混合；S3、沉淀与澄清；S4、过滤纯化；S5、性能测试；S6、应用于研磨。本发明的团聚研磨液在用于蓝宝石LED芯片背减工艺中具有以下优点：提高悬浮性和粘度：通过添加增稠剂（如卡波姆、CMC等），增强了液体的悬浮性，减少磨料在研磨过程中的沉淀，确保了磨料的均匀分布；便捷的工艺替代：该工艺使用树脂蜂窝垫搭配团聚悬浮液，取代了传统的铜盘工艺，降低了铜盘修正周期及时间成本，提高了生产效率；提升去除率：由于增稠剂的使用，磨料在研磨过程中不易甩出，从而提高了团聚粉体的利用率，确保更有效的加工效果。

本发明授权一种用于蓝宝石LED芯片背减工艺的团聚研磨液加工方法在权利要求书中公布了：1.一种用于蓝宝石LED芯片背减工艺的团聚研磨液加工方法，其特征在于，包括以下步骤： S1、配方准备：选择合适的磨料并进行预处理，添加增稠剂以提高液体的悬浮性和粘度； S2、混合：将磨料、增稠剂和其他添加剂按照一定比例混合，使用搅拌设备确保均匀分散，避免团聚现象，得到混合液； S3、沉淀与澄清：让混合液静置一段时间，以去除气泡和不溶物，确保液体清澈； S4、过滤纯化：对沉淀和澄清后的混合液进行过滤，以去除剩余的不溶物和杂质，确保得到足够纯度和均匀性的团聚研磨液； S5、性能测试：对研磨液进行性能测试，包括磨料分布、粘度、pH值等指标，以确保其符合工艺要求； S6、应用于研磨：将制备好的团聚研磨液应用于蓝宝石LED芯片的背减工艺中，并采用树脂蜂窝垫搭配团聚悬浮液，完美替代铜盘工艺，该工艺便捷，更换垫子时间短，帮助客户提升修铜盘的时间利用率，提高产能； 在S1中，所述磨料选自氧化铝、碳化硅、立方氮化硼和金刚石团聚粉中的一种或多种； 在S1中，所述增稠剂选自卡波姆、羧甲基纤维素钠、黄原胶和聚乙烯醇中的一种或多种； 在S1中，准备步骤具体如下： S1、按照所选磨料的性质进行干燥和筛分，确保颗粒均匀且无水分或杂质，将预处理好的磨料按所需比例称量备用； S2、称取所需量的增稠剂，将增稠剂慢慢加入到预先准备的水相中，使用搅拌器保持均匀搅拌，防止结块，继续搅拌直至增稠剂完全溶解，形成均匀的粘稠液体； 在S2中，所述添加剂选自分散剂、防腐剂和抗氧化剂中的一种或多种； 在S2中，混合步骤具体如下： S1、将预处理后的磨料逐步加入到增稠剂溶液中，边加边搅拌，确保磨料完全分散，根据需要调整粘度，可以适量增加增稠剂的用量，或添加水以达到理想的流动性； S2、使用pH计检测研磨液的pH值，根据需要可加少量酸或碱进行调整，以获得最佳的稳定性和性能； S3、最终混合：将混合物经过细致搅拌，确保所有成分均匀分布，得到混合液； 在S3中，沉淀步骤具体如下： S1、将混合液倒入透明的容器中，放置在温度稳定、无振动的环境中，推荐的静置时间通常为30分钟至数小时； S2、在静置过程中，定期检查混合液的上层是否出现气泡消失，以及底部是否有沉淀物的形成； 在S3中，澄清步骤具体如下： S1、静置后，使用透明容器观察混合液的上层是否已经变得清澈，若发现仍有悬浮物，可考虑延长静置时间； S2、如果混合液的上层已清澈，而底部有沉淀物，轻轻倾斜容器，尽量避免搅动沉淀，可以小心倒出清澈部分，留下沉淀物； 在S4中，过滤纯化步骤具体如下： S1、将沉淀和澄清后的混合液缓慢倒入过滤设备中，确保液体均匀流动，以提高过滤效率； S2、可以使用滤布、滤纸、或专用的过滤器进行过滤，将混合液通过过滤器，以确保去除所有不溶物； S3、收集过滤后的液体，确保没有杂质残留在过滤介质上，再对滤液进行检查，确保其清澈且无杂质，如果有必要，可以重复过滤以进一步提高纯度； 在S5中，所述性能测试分别采用激光粒度仪检测粒度分布、使用粘度计测量粘度和pH计监测酸碱度。

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